Ni-Ti形状记忆合金电化学抛光工艺研究

为提高Ni-Ti形状记忆合金的表面质量,以Ti50.8Ni(原子分数,%)为基材进行纳米级电化学抛光加工试验。基于自行研制的电化学抛光加工系统及抛光液,通过正交试验和单因素试验,分析了电流密度、抛光时间、抛光温度、电极间距等因素对电化学抛光的影响程度及影响机理。采用Micro XAM-100白光干涉仪对抛光试样进行检测。结果表明:最佳抛光工艺为电流密度J=1.0 A/cm2、电极间距d=15 mm、抛光时间t=140 s、抛光温度θ=15℃。在最佳工艺参数下抛光质量良好,试件表面粗糙度值显著降低至27.8 nm,表面平整均匀、光亮如镜。     

Ni-Ti合金电化学抛光性能研究

为提高Ni-Ti合金的表面质量和抗蚀性,改善生物相容性,基于自行研制的电化学抛光系统及抛光液,以Ti50.8Ni(at.%)为基材在最佳工艺参数下进行纳米级电化学抛光实验。研究了电化学抛光对试件表面粗糙度和表面形貌的影响;与砂纸打磨、机械抛光、酸洗等表面处理方法做对比,研究了不同表面处理方法对试件亲疏水性能和腐蚀性能的影响。分别利用白光干涉仪、扫描电子显微镜、接触角测量仪、电化学工作站检测分析了材料表面粗糙度、表面形貌、亲疏水性能及腐蚀性能。结果表明,在最佳工艺参数下试件电化学抛光质量良好,表面粗糙度值显著降低至27.8 nm,表面平整均匀、光亮如镜;经电化学抛光的Ni-Ti合金表面呈疏水特性,改善了生物相容性,提高了耐腐蚀性。