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用直流等离子化学气相沉积法在硬质合金上沉积氮化钛膜的研究 总被引:2,自引:0,他引:2
用直流等离子气相色沉法在硬质合金上沉积TiN膜,研究了沉积工艺参数对膜层结构,膜层的成分,断口形貌和膜层硬度的影响,结果表明,在500~700℃温度范围内,可以沉积出单相的TiN膜,膜层结构致密,硬度可达Hv21560N/mm^2,在500片刀片炉量情况下,沉积室中不同部位的刀片均可得相同结构和优异性能的膜层,因此采用此沉积法实现批量化生产。 相似文献
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RF-PECVD工艺参数对DLC膜结构及性能的影响 总被引:1,自引:0,他引:1
用射频等离子增强化学气相沉积(RF-PECVD)法,在常温下实现在载玻片和单晶硅基片上沉积类金刚石(DLC)薄膜。研究结果表明,工艺参数(功率密度、氩气分压、丁烷分压和极间距)的变化对薄膜硬度和透过率影响较大。薄膜硬度随着功率密度的增加而增加;随着氩气分压或丁烷分压的增加,薄膜硬度降低。薄膜的透过率随着氩气分压先增后减;丁烷分压为0.42~0.7Pa或板极间距为4.5~8cm时,薄膜的透过率均达到90%。 相似文献
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铝合金化学镀镍复合层工艺及性能研究 总被引:1,自引:0,他引:1
先将铝合金样品阳极氧化30 min,然后电镀铜5 min,最后化学镀镍30 min,可以在铝合金表面获得颜色稳定、结合性能良好的复合层,且复合层致密,厚度可达20μm以上,复合层的硬度HV0.025/20达到450以上.阳极氧化和电镀铜所用溶液相同,给生产带来了方便. 相似文献
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