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2.
3.
综述了ZrWzO8在金属基、氧化物陶瓷基、水泥基和聚合物基复合材料中的应用情况。重点介绍了Cu-ZrW2O8、Al-ZrW2O8、ZrO2-ZrW2O8、Cement-ZrW2O8、Polyimide-ZrW2O8等复合材料的研究成果和存在的问题;提出了ZrW2O8可控热膨胀系数的复合材料未来研究方向。 相似文献
4.
现阶段,高新技术的成熟发展,互联网技术被普遍应用到各个领域。以气象综合业务的应用来看,互联网技术在现代气象综合业务应用中的应用体现更大的优势,提升气象预报的准确性、提高气象信息处理的高效性、提高卫星资料的处理能力。在分析互联网技术在现代气象综合业务应用中作用的基础上,分析互联网技术用于文登区气象综合业务的探索,结合现状思考未来"互联网+气象"的发展,要点性知识以供参考和借鉴。 相似文献
5.
6.
共沉淀法合成ZrO2-ZrW2O8复合材料的工艺研究 总被引:1,自引:0,他引:1
以硝酸氧锆[ZrO(NO3)2·5H2O]和钨酸铵(H40N10O41W12·xH2O)为原料,采用共沉淀法合成了低热膨胀的ZrO2-ZrW2O8复合陶瓷, 着重研究了不同热处理条件对前驱体转变为ZrO2-ZrW2O8复合陶瓷的影响, 并探讨了前驱体生成及其转变的反应历程. 通过X射线衍射仪(XRD)、热重-差示扫描量热(TG-DSC)、扫描电子显微镜(SEM)、热膨胀仪等分析手段对样品的晶体结构、物相转变、断面微观形貌和热膨胀性能进行表征. 结果表明: 采用共沉淀法制备的前驱体在1150℃热处理2h可以合成高纯度、混合均匀的ZrO2-ZrW2O8复合陶瓷; 随烧结时间的延长, ZrW2O8衍射峰半高宽逐渐减小, 晶粒在不断长大; ZrO2-50wt%ZrW2O8复合陶瓷在30~600℃内的平均热膨胀系数为-3.2295×10-6K-1. 相似文献
7.
The doping effects of rare earth oxides Ho2O3 and Er2O3 on dielectric properties of BaTiO3-based ceramics were studied. After adding rare earth elements, grain growth in this system was inhibited and the grain size was reduced evidently which realized the fine-grained effect. In this system, the trivalent oxides Ho2O3 and Er2O3 were added to BaTiO3 ceramics. The rare earth oxides do not enter into inner lattice totally to replace A or B sites.Some of additives can improve dielectric strength by forming nonferroelectric phases, and the rest maintained at grain boundaries controls overgrowth of grains. The dielectric constant at room temperature is increased up to 3000 and the curve of TCC becomes flat.Meanwhile, the dielectric strength Eb becomes higher. 相似文献
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9.
以硝酸氧锆[ZrO(NO3)2·5H2O]和钨酸铵(H40N10O41W12·xH2O)为原料,采用共沉淀法合成了低热膨胀的ZrO2-ZrW2O8复合陶瓷, 着重研究了不同热处理条件对前驱体转变为ZrO2-ZrW2O8复合陶瓷的影响, 并探讨了前驱体生成及其转变的反应历程. 通过X射线衍射仪(XRD)、热重-差示扫描量热(TG-DSC)、扫描电子显微镜(SEM)、热膨胀仪等分析手段对样品的晶体结构、物相转变、断面微观形貌和热膨胀性能进行表征. 结果表明: 采用共沉淀法制备的前驱体在1150℃热处理2h可以合成高纯度、混合均匀的ZrO2-ZrW2O8复合陶瓷; 随烧结时间的延长, ZrW2O8衍射峰半高宽逐渐减小, 晶粒在不断长大; ZrO2-50wt%ZrW2O8复合陶瓷在30~600℃内的平均热膨胀系数为-3.2295×10-6K-1. 相似文献
10.
不同靶材制备ZrW_2O_8薄膜的对比研究 总被引:1,自引:0,他引:1
分别采用摩尔比n(WO3):n(ZrO2)=2.8:1复合陶瓷靶材、纯ZrW208陶瓷靶材以及WO3和ZrO2双靶,以射频磁控溅射法在石英基片上沉积制备ZrW2O8薄膜.利用x射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)研究了退火温度对采用不同靶材沉积制备薄膜的相组成和表面形貌的影响;用划痕仪、表面粗糙轮廓仪测量薄膜与基片之间的结合力和薄膜厚度.试验结果表明:采用不同靶材磁控溅射制备的薄膜均为非晶态,经过不同温度退火后,不同靶材制备的薄膜的相组成和表面形貌有所不同,但在高温1200℃热处理3 min后均得到立方相ZrW2O8薄膜,其中采用WO3和ZrO2双靶交替磁控溅射制备的立方相ZrW2O8薄膜纯度最高,致密度好,且薄膜与基片之间结合力良好. 相似文献