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直流磁控溅射功率对溅射生长GZO薄膜光电性能的影响 总被引:1,自引:0,他引:1
本文采用直流磁控溅射沉积系统在玻璃基底上沉积镓掺杂氧化锌(GZO)薄膜,将溅射功率从120W调整到240W,步长为30W,研究功率变化对GZO薄膜的晶体结构、表面形貌、光学性能和电学性能的影响。结果表明,溅射功率对GZO薄膜电阻率有显著的影响。溅射功率为210W时薄膜呈现最低电阻率为3.31×10~(-4)Ω·cm,可见光波段平均光学透光率接近84%。随着溅射功率的增加,薄膜表面形貌和生长形态发生较大变化,并直接得到具有一定凸凹不平的微结构,GZO薄膜的致密性先增加后降低。 相似文献
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基于液晶显示屏所用基板玻璃与盖板玻璃,以实验室熔制样品作为研究对象,通过傅里叶变换红外光谱(FTIR)与拉曼光谱对这两种玻璃进行了结构探索与对比分析.红外光谱表明,基板玻璃与盖板玻璃谱峰较为接近,中频区与高频区,基板玻璃的峰位处于更高的频率;而拉曼光谱结果表明,两种玻璃的Si-Onb非桥氧的存在形式均以Q2和Q3为主,且Q3比例大于Q2,而两种玻璃的Q0与Q1均很少,同时与红外光谱类似,基板玻璃在高频区的拉曼峰位比盖板玻璃处于更高的频率,且Q3/Q2值更高,表明基板玻璃网络结构中含有更高的桥氧比例,网络结构紧致度高于盖板玻璃. 相似文献
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测定硫酸镍中杂质的方法,有许多资料报导过。作为试剂的分析有国家和部颁标准方法,这些方法为硫酸镍的生产提供了检验的标准。但是由于大量镍基体存在,对少量杂质测定有影响,为消除其干扰,又多采用有机试剂萃取分离,这不仅使测定的手续繁杂,而且又危害操作者的健康。当前,原子吸收分光光度法广泛地被应用着,它具有筒便快速等特点,是一般化学分析方法所不及的。本文就应用原子吸收光谱法测定硫酸镍中杂质进行了研 相似文献
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