端壁运动对自发射流抑制叶尖泄漏影响的数值研究

通过数值手段分析了端壁运动对带有叶尖自发射流的叶栅流场特性、叶顶间隙泄漏流量特性及叶片周向载荷分布特性的影响。结果表明:端壁运动的反向刮削作用会显著影响间隙附近流场,随着端壁运动速度增大,泄漏涡和上通道涡会逐渐向叶片吸力面靠近,同时,泄漏涡强度逐渐削弱,而上通道涡强度逐渐增强,平均总压损失增大;端壁运动对叶尖自发射流抑制泄漏流的效果有放大作用;端壁运动会显著改变叶尖吸力面附近静压系数的分布,使其具有后加载的特性。     

叶尖自发射流条件下涡轮非定常流动的数值模拟

为分析自发射流条件下非定常尾迹对叶顶间隙流动、S1流面和S2流面上流场参数、叶尖泄漏比和动叶载荷变化的影响,采用数值模拟方法,以Durham叶栅为原型,将动、静叶栅流场通过滑移网格技术耦合,开展非定常计算。结果表明:在静叶非定常尾迹的影响下,转子区域流场内的流动、叶尖间隙泄漏比及叶片周向载荷均呈现出周期性变化的特征;考虑非定常效应和端壁相对运动效应,相较于无叶尖射流,单孔叶尖自发射流可使泄漏比降低4.57%,比定常计算预测的泄漏比低3.43%,表明要想准确获得叶尖射流条件下的叶栅流动特性和叶尖泄漏抑制效果,其间的非定常效应不可忽略。     

带叶尖自发射流的平面叶栅流场特性数值研究

通过数值求解三维定常黏性雷诺时均N-S方程,获得了叶尖单孔自发射流条件下的叶栅流场,分析了自发射流与泄漏流的相互作用,比较了有、无自发射流条件下叶尖泄漏及载荷分布,探讨了端壁相对运动速度对自发射流抑制泄漏流有效性的影响.结果表明:叶尖射流在其下游形成的扇形低速区占据了部分泄漏流通道,由此对泄漏流产生一定的抑制作用,同时对叶尖吸力面载荷分布产生影响;与无叶尖射流相比,当进口雷诺数同为5.764×105时,叶尖自发射流的存在使泄漏比相对值降低5.42%,单个叶片载荷增加1.41%.     

考虑缓冲回路的HVDC系统状态空间模型与求解算法

为了提高基于状态空间法的高压直流输电系统仿真计算精度,提出了一种考虑缓冲回路的HVDC系统仿真计算方法。以晶闸管的阀电流和缓冲电流作为状态变量对晶闸管进行建模,将换流变压器不同工况下的电压变换关系通过关联矩阵表示为统一的形式,建立换流器和换流变压器的状态空间模型,结合直流线路模型推导HVDC系统一次设备状态空间表达式。进一步,分析了控制系统的触发信号生成方法以及一次系统与控制系统的数据交互过程,实现了HVDC系统数学模型高精度求解。最后将Matlab实现的算法结果与PSCAD仿真结果进行对比,一次系统求解精度可达99.99%。