蜕变——中国气象局华风影视大楼

华风气象影视大楼总面积4万平方米，根据空间功能不同分为办公大楼和商务写字楼两部分，办公大楼是集演播室、制作机房、办公室为一体的九层综合性建筑。设计师杨宇在刚接触到这个项目的时候，面对的是一个既成事实的建筑。     

DSP在电机测速中的应用

DSP目前被广泛应用于许多领域，例如数字通信，图像处理，电机控制等方向。本文以TI公司的TMS520LF2407A芯片为例、介绍了DSP在电机测速中的应用，由于TI的2000系列芯片内含捕获单元和正交编码脉冲(QEP)电路，所以可以很方便地用于电机测速和控制。     

IP承载网技术发展趋势

介绍了下一代网络的发展目标,IP技术发展状况,IP QoS技术发展现状和趋势,网络可用性技术的发展现状和趋势,以及IP承载网发展的安全问题、地址问题。     

高温氨化合成GaN微晶

分别利用Ga2O3粉末和Ga2O3凝胶作为Ga源,采用NH3为N源,在950℃下,分别将两种反应物与流动的NH3反应20 min合成了GaN微晶。用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、选择区电子衍射(SAED)对微晶进行结构、形貌的分析,特别是对两种不同途径合成GaN微晶的XRD进行了分析比较。结果表明,当Ga源温度为950℃时两种不同的合成途径均可得到六方纤锌矿结构的GaN单晶颗粒,在氮化温度为850℃和900℃时,利用Ga2O3粉末作为Ga源,仅有少量的Ga2O3转变为GaN;而采用Ga2O3凝胶作为Ga源,在相同的温度下,大部分凝胶经过高温氨化反应均可转化为GaN。     

区熔硅近表面洁净区和体内微缺陷的形成

中子辐照区熔(氢)硅片经退火后在近表面形成洁净区,在硅片内部形成体内微缺陷.微缺陷的形成与中子辐照造成的损伤及单晶硅内氢杂质的催化加速有关,还与后续退火条件有关.第一步退火的温度对微缺陷的尺度有很大的影响,中低温要比高温所形成的微缺陷小.在退火过程中微缺陷有一个生长过程,1100℃退火2h微缺陷已达最大.硅片表面的粗糙度影响表面洁净区的形成,洁净区出现在未抛光面,双面抛光硅片不会形成表面洁净区.     

黑又川坝的防渗处理

黑又川坝的防渗处理多田省一郎柴田一成１前言黑又川坝位于新泻县东南部信浓川水系与鱼野川支流破间川汇合的黑又川上，是一座坝高２４．５０ｍ，坝长１７６．１４ｍ的重力坝，是为东北电力株式会社上条发电站（最大出力６０００ｋＷ）引水而修建的。坝体没设溢洪闸，几乎...     

煤层瓦斯涌出初速度规律探讨

瓦斯涌出初速度是预测煤层与瓦斯突出危险性的一个常用指标，在对回采面的测定数据的统计分析中，发展与区段标高之间存在着简单的线性关系，运用最小二乘法。得到关于采面的瓦斯涌出初速度与区段标高的线性回归方程，对该回采面开采过程中，防治煤与瓦斯突出具有一定的指导作用。