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1.
2.
以某水电站砂石加工系统工艺设计为例,针对其天然砂砾料储量受限、含泥量较高及细度模数偏低等问题,给出了对应的工艺流程设计选择方法及解决方案。并基于此提出了水电工程碾压混凝土天然砂砾料源加工工艺设计选择方法、需重点关注的问题及对应的解决方案。  相似文献   
3.
刘明 《电子设计技术》2003,10(10):99-100
随着ARM处理器在全球范围的流行,32位的RISC嵌入式处理器已经成为嵌入式应用和设计的主流.与国内大量应用的8位单片机相比,32位的嵌入式CPU有着非常大的优势,它为嵌入式设计带来丰富的硬件功能和额外的性能,使得整个嵌入式系统的升级只需通过软件的升级即可实现.  相似文献   
4.
要提高曲线轮廓汉字的还原质量, 需要在字形还原时采用网格适配技术本文介绍了网格适配的基本原理, 并在分析汉字字形还原失真现象的基础上, 给出了我们自己设计并实现的适合于曲线轮廓汉字特点的二种网格适配方法, 即动态的补象素算法和曲线轮廓汉字的技术  相似文献   
5.
本文介绍了Windows系统的图形处理功能,详细说明了Windows中的图形处理环境,图形处理工具以及在实际应用中的处理。  相似文献   
6.
武港山 《微型计算机》1994,14(3):79-81,F004
本文介绍了Windows系统中的图象处理,阐述位图的形成方式以及显示方式,以及 Windows中位图的格式。  相似文献   
7.
对武汉市长江烂泥湖堤长丰低闸重建施工期间的安全监测资料进行了分析。重点分析了闸过水箱涵的结构缝开合、不均匀沉降等变形监测量变化特征及发展趋势 ,并由此对长丰低闸在施工期的安全状态进行了评判  相似文献   
8.
Ⅰ线光致抗蚀剂可以同时实用电子束和光学系统曝光,在50kV加速电压下,其曝光剂量为50-100μC/cm^2,曝光后在0.7%NaOH溶液内显影1分钟。其灵敏度比PMMA快5倍,分辩率为0.5μm。采用两方法制备CaAsPHEMT:一种用Ⅰ线光致抗蚀剂,对源、漏及栅全部都采用电子束曝光,制备了0.5μm栅长的GaAs PHEMT;另一种将源、漏及栅分割成两部分,其中精细部分由电子束曝光,其余部分由光学系统曝光,用这种方法制备了0.25μm栅长的GaAs PHEMT。Ⅰ  相似文献   
9.
郭德彬  周峰  唐璞山 《微电子学》2002,32(1):62-65,68
提出了一个工作电压为3V,工作频率900MHZ,输出功率为20mW的高效率CMOS功率放大器。为了达到设计目标,文章采用了一些特殊的方法,包括三级放大结构,级间的调谐匹配和层叠差分结构。  相似文献   
10.
本文以在蒸汽机车锅炉(?)温群控系统中成功地实现自适应控制为例,介绍一种用单板机对“灰(?)”进行在线辨识和自校正调节的十分简便的方法。该系统运行已超过二年,并通过鉴定,实控运行稳定,适应能力强,控制精度高,其简化的自适应控制计算,有关专家认为具有“创造性”。  相似文献   
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