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高功率脉冲磁控溅射等离子体放电特性研究现状 总被引:1,自引:1,他引:0
高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)因其较高的靶材原子离化率和优异的薄膜成形性能,逐渐成为PVD领域的热点镀膜技术。靶材原子的高度离化宏观表现为较大的放电电流。介绍了等离子体放电靶电流的构成及其形成原理,分析了HiPIMS放电过程中磁场、靶电压、工作气压对靶材原子离化率的影响,及其相应放电靶电流曲线。空间磁场可以束缚电子,增长靶前电子运动轨迹,同增大工作气压一样,都可以减小粒子运动平均自由程,增大粒子碰撞几率,提高原子离化率,增大放电靶电流。升高靶电压可以提高离子碰撞能量,靶电压越高,放电靶电流越大。分析了各种靶材在不同电压下的放电靶电流曲线。优异的薄膜成形性能得益于对离子运动的良好控制,阐述了等离子体空间电荷分布状况、靶材自溅射和"气体循环"过程、二次电子发射及其促进离化机制、等离子体碰撞引起的气体稀薄现象,以及预鞘层对二次电子和等离子体电子的焦耳加热效应等微观机理,论述了这些微观机理对粒子离化的作用效果。最后展望了研究HiPIMS等离子体放电特性可能的研究方向。 相似文献
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通过分析我国人造板企业生产、管理中面临的问题,根据基于网络的敏捷制造生产方式特征以及人造板生产企业和关联企业职能,构建了基于网络的一主多从型敏捷制造系统。系统结构设计为三层,内层通过搭建基于各种服务器设备、局域网等网络支持环境,实现了主导企业内部的数据通信、存储、分析和与外层企业的信息交流。联盟企业在外层可以利用互联网与主导企业协同进行产品和生产工艺的并行化设计。系统通过基础层结构设计,利用与内层相关服务器的通讯,完成人造板生产线的生产管理、现场监控、质量检测,与外层协作企业共同维护生产设备等工作,实现整个系统的敏捷化生产。 相似文献
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原子层沉积技术及应用 总被引:1,自引:0,他引:1
简单阐述了原子层沉积技术的发展背景,然后概括了原子层沉积技术原理、技术特征和优势,并对化学吸附和顺次反应两种自限制机制进行了描述和比较。着重介绍了原子层沉积技术在工艺等方面的最新成果,以及在纳米催化剂、电池、半导体器件、光学、生物医学和航空航天领域中的相关应用。其中将原子层沉积在电池、半导体器件和生物医学方面的应用进行了分类介绍。电池方面包括锂离子电池和太阳能电池,半导体器件方面分为高k电介质、电容器、电阻随机存取存储器(RRAM)和光、电二极管。生物医学领域分别介绍了其在生物相容性、抑菌抗菌涂层和微观组分方向的研究进展。最后对原子层沉积技术进行了归纳总结,并展望了其未来的发展方向和应用前景。 相似文献
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对采油管柱整体落井事故的发生原因,处理及预防措施进行探讨,以期找到处理此类事故最经济的方式和预防事故发生的措施,达到减少事故发生次数,最大限度降低损失的目的。 相似文献
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