光刻版图形处理过程的计算机仿真

采用有限状态机模型来仿真集成电路行业中光刻版图形的处理过程,涵括了层次处理、涨缩处理和反转处理。将不同的处理过程定义为相应的状态,将图形处理要求定义为输入条件触发状态转换。该模型已应用于光刻版数据处理的电子设计自动化软件。     

1x EV-DV的可用性及其改进方案研究

文章给出一种可行的利用码分多址实现cdma2000 1x和1x EV-Do同频点兼容的方法。使用该方法可10倍提高小区内的下行信道频谱利用率,使这种CDMA/TDMA系统的容量基本等于双频点cdma2000 1x和1x EV-Do系统的和。这种方法避免了1x EV- Do系统需设置专用频点的问题,大幅提升了900MHz优质稀缺车载移动通信频段的频谱利用率,改进了cdma2000 1x标准上下行容量基本对称的技术缺陷,更加符合移动因特网的需求。     

某型号前盖密封圈及壳体组件密封圈寿命研究

介绍了两种胶料的丁腈橡胶密封圈寿命研究和评估试验。试样为φ10×10小豆,其特性指标为残余变形量,将该试样在333K(60℃)、343K(70℃)、353K(80℃)、363K(90℃)及373K(100℃)五个温度下进行加速老化试验,同时,将装有上述两种密封圈的主阀在343K(70℃)下进行90天老化。根据试验结果估算了两种胶料在301K(28℃)和在323K(50℃)下的寿命,并推导出密封圈在规定使用条件下不同温度时的寿命方程。     

高分子量昆虫病毒DNA基因组的电镜观察——Ⅰ关于解旋高度致密的超螺旋结构的尝试

本文介绍一种解旋高度致密的超螺旋结构得到完全开环分子图像的技术,与一些常规方法相比,此法有独特之处。这一技术为用电镜精确测定高分子量基因组的分子量、进行基因定位及进行复制转录的研究提供了方便。     

高分子纳米LB膜的制备及其光刻性能研究

合成并表征了N-十六烷基丙烯酰胺（HDA）和对叔丁基苯酚甲基丙烯酸酯（BPhMA）的共聚物p（HDA-BPhMA）s。当HDA含量较高时，共聚物可在气，液界面上形成稳定，排列紧密的单分子薄膜，并可以Y型膜的方式沉积在各种固体基片上，形成多层均匀的Langrnuir-Blodgett（LB）膜。这种LB膜被成功地应用于光刻，获得了分辨率为0.5μm的LB膜图形。以该图形为抗蚀层，可将图形进一步转移至金属薄膜上，得到分辨率较高的金属图形，在图形转移的过程中，这种LB膜显示出较高的抗蚀性，有望作为纳米抗蚀薄膜材料在亚微米刻蚀领域得到应用。     

二进制乘方,乘积速算法

本文给出了二进制数乘法运算的一种速算方法及其合理性证明。     

厦门电化厂氯气干燥工序使用钛管换热器效果显著

厦门电化厂氯碱车间氯气干燥工序原来使用玻璃管换热器,冷却从电解槽出来的既高温又潮湿的氯气,使氯气初步得到干燥,然后再进一步用浓硫酸干燥脱去氯气中的水分,使氯气水分含量达到相似文献