光刻伺服录写设备中主轴电机的高稳定性控制

在我们研制的光刻伺服码录写设备中,主轴伺服系统是它的重要部分,其运行的平稳性直接影响了盘片伺服图形的预刻精度。介绍了采用多闭环反馈的电机控制电路,保证了电机运行的高稳定性要求。     

指甲：人体健康的晴雨表

时下,新兴起的美甲风被视为时尚的重要元素。可如果指甲本身存在问题,所有的外在美都会化为泡影。据专家介绍说,指甲的健康与多种疾病相关。正常的指甲红润、坚韧而有弹性,指甲面为弧形,平滑有光泽,指甲根部的甲半月为灰白色,轻按指甲后松开,血色可以迅速恢复。指甲形色的改变则预示一些疾病的发展变化,以下观察指甲形色变化的内容,供读者参考。     

Al2O3-SiO2纳米复合薄膜的制备及性能研究

以正硅酸乙酯、异丙醇铝为先驱体,甲基三乙氧基硅烷为有机硅烷,采用溶胶-凝胶旋涂方法在普通玻璃和硅片表面镀制纳米复合薄膜.通过FT-IR、VIS透射光谱的分析及薄膜表面接触角的测量,研究了Al2 O3与SiO2配比和热处理温度对复合薄膜的化学结构、透光率及疏水性的影响.结果表明该薄膜具有疏水、致密、透明等性能;Al2 O3的加入未降低复合薄膜的可见光透光率,其中经400℃热处理后不同配比复合薄膜在可见光区的透光率均大于85%,且不影响复合薄膜的疏水性.     

含罗丹明B的纳米复合介孔薄膜的制备和性能

采用溶胶-凝胶技术、蒸发诱导自组装法,通过酸/酸二步法控制实验条件,实验中采用表面活性剂十六烷基三甲基溴化氨(CTAB)为模板剂,正硅酸乙酯为硅源、罗丹明B、以及二次去离子水,盐酸为催化剂等原料制备前驱体溶胶.通过简单提拉迅速蒸发溶剂制备介孔薄膜,对介孔薄膜进行了X射线衍射、透射电子显微镜表征,观察了薄膜样品的吸收光谱和荧光光谱.含罗丹明B膜的吸收光谱表明主峰是RhB单体的吸收和微弱吸收的次峰是RhB形成的二聚体的吸收.而在荧光光谱中只有一个发射谱带,这是RhB单体的最低激发能级到基态级的跃迁,含罗丹明B的纳米复合介孔薄膜中,随着RhB浓度的增大,荧光峰位发生红移,这可以说明激发态分子的偶极矩减小.     

纳米α-Fe2O3/SiO2复合材料的制备及磁性能

以正硅酸乙酯(TEOS)、无水乙醇(Eth)、Fe(NO3)3·9H2O和盐酸(HCI)为原料,采用溶胶一凝胶方法制备了纳米α-Fe2O3/SiO2复合材料.同时研究了热处理温度以及Fe2O3浓度对纳米复合材料α-Fe2O3/SiO2的形成及磁性能的影响.结果表明:纳米α-Fe2O3/SiO2复合材料最佳热处理温度为700℃左右,Fe2O3最佳浓度为40%.(质量分数)左右,相应的纳米α-Fe2O3/SiO2复合材料的磁性能也是最佳的.     

ZAO纳米粉体的制备及其在红外隐身中的应用研究

采用溶胶-凝胶法制备了铝掺杂氧化锌(ZAO)纳米粉体.使用X射线衍射仪(XRD)研究了Al2O3掺杂对ZnO物相结构和晶粒度的影响,结果表明,Al离子的掺杂并没改变ZnO的晶体结构,Al抖对Zn2 的替位掺杂使晶格发生畸变,衍射角偏离,随Al离子掺杂浓度的增加,晶体的平均粒径减小.对ZAO纳米粉体样品的红外吸收特性分析表明:随Al离子掺杂浓度的增加,红外吸收出现蓝移.理论分析得出适当调节ZAO栽流子浓度可以制备低红外发射率材料.     

让衰老放慢脚步

衰老总是不可避免的，但怎样才能让它的脚步慢些、再慢些呢？长期精心的保养固然不可少，但生活方式的健康才是最根本的。如果在日常生活中能够懂得及时调整自己的生活方式，就会发现延缓衰老并不特别困难。     

光刻伺服码录写设备中的定位系统

为了提高记录道密度，采用了预（光）刻伺服码道技术，这就需要研制、开发高精度驱动定位装置的光刻专用设备。本文介绍我们所研制的光刻伺服录写设备中的驱动定位系统。     

实验条件对SiO2-MTES-CTAB纳米疏水薄膜的影响

以正硅酸乙酯(TEOS)为硅源,采用溶胶-凝胶技术,通过两步酸法控制实验条件引入有机硅烷甲基三乙氧基硅烷(MTES)和表面活性剂十六烷基三甲基溴化氨(CTAB),制备了疏水型SiO2前驱体溶胶.以旋涂法成膜出SiO2-MTES-CTAB纳米疏水薄膜,研究了正硅酸乙酯与甲基三乙氧基硅烷不同的混合比以及不同的热处理温度等对纳米疏水薄膜的影响,并且分析了纳米疏水薄膜的表面形态.研究表明,利用有机基团甲基三乙氧基硅烷改性SiO2溶胶和薄膜的热处理温度对制备的SiO2基纳米疏水薄膜的性能以及表面形态都具有非常重要的影响.     

利用表面活性剂量改变孔洞率制备的纳米多孔SiO2膜

采用表面活性剂十六烷基三甲基溴化氨(CTAB)为模板剂,在酸性条件下产生多孔结构,再经热处理去除CTAB。实验中使用溶胶?凝胶技术,正硅酸乙酯(TEOS)为硅源,以及二次去离子水,盐酸为催化剂等原料,利用表面活性剂与硅源水解后形成的聚集体相互作用,在溶液中形成分子自组装体,制备前驱体溶胶。通过简单提拉迅速蒸发溶剂制备纳米多孔或纳米介孔SiO2薄膜,分析和研究了表面活性剂浓度对纳米多孔SiO2薄膜的结构和孔洞率的影响,通过操纵表面活性剂的含量,能控制薄膜的纳米结构、孔洞率、孔大小和孔的形态以及膜的形貌。小角度射线衍射、场发射透射电子显微镜、原子力显微镜显示可以制得具有六方、立方和由三维六方和简单立方组成的新相结构以及比介孔大的纳米多孔结构的薄膜。椭偏仪测量得到所制备薄膜的孔洞率为51.8%-65.6%,借助此孔洞率能计算薄膜的折射率和介电常数。