衍射光栅自刻法

本文介绍以被刻光栅本身作为分度基准刻划长衍射光栅的新方法:先用原基准信号控制机器,在一个长毛坯的前端刻出一段光栅,用这段光栅构成新的干涉仪以产生“自刻信号”,然后再以自刻信号控制机器接着刻划光栅后面的部分。还分析了转接误差对自刻光栅的影响,得出刻划长度和误差累积的关系。简单介绍了实验方案、装置、实验结果等。所刻样品光栅的衍射波阵面干涉条纹在转接处看不出错开和弯曲,实测分辨本领达到理论值的90%(半宽法)。     

光栅干涉仪的运动误差原理

本文应用衍射光栅干涉仪的半波相位差面原理模型,说明光栅摆动误差引起的干涉条纹变化情况,进而分析得出光栅干涉仪运动误差公式。可作为设计和应用此种干涉仪的依据之一。     

衍射光栅的半波相位差面及其与光栅误差的关系

本文介绍了光栅两束衍射光相干涉形成半波相位差面的概念,指出分光光栅干涉仪的干涉条纹方向及宽度取决于分光面和半波相位差面的相对位置。通过对有误差光栅半波相位差面的分析,导出了半波相位差面的变形与光栅误差的关系,为分析光栅误差对此种干涉仪信号精度的影响提供了一种方法。     

我国烘焙业饼店差异化经营凸显

焙烤食品是以小麦等谷物粉料为基本原料,通过发面、高温焙烤过程而熟化的一大类食品。中国自改革开放以来,国家对烘焙食品工业的高度重视以及西部大开发、振兴东北地区、促进中部崛起、建设社会主义新农村等重要战略和举措,促使焙烤食品行业得到了较快的发展,产品的门类、花色品种、数量质量、包装装潢以及生产工艺和装备,都有了显著的提高。     

从经济发展看烘焙业发展的五大趋势

随着我国经济的不断发展，技术的不断更新，行业竞争力的不断提升，我国烘焙业发展又会面临怎样的趋势呢？又会迎来怎样的挑战？让我们来纵观一下我国目前烘焙行业的总体趋势，从五大趋势中．把握市场行情动态．做到与时俱进。     

衍射光栅制造技术的发展

衍射光栅巳广泛应用于国防、科研和国民经济的许多领域，因此跟踪世界先进的衍射光栅制造技术具有十分重要的意义。文中对衍射光栅制取的两个重要方法—刻划光栅与全息光栅的原理和技术发展进行了阐述，并指出了衍射光栅制造技术的发展趋势。     

相位扫描法制作变栅距光栅

提出了一种制作变栅距(VLS)光栅的相位扫描方法。该方法的主要装置包括一个用于控制刻划机运动的光栅干涉仪和一个相位扫描机构。如果调整光栅干涉仪,保证接收场中只有两条干涉条纹,然后改变用于对条纹进行计数的光电传感器的位置,就可以刻划出具有变栅距的刻槽。对光电式光栅刻划机的控制系统和结构都做了详细论述。按照上述方法成功刻划出了试验性的VLS光栅,它的最小栅距增量为0.33nm,并对在制作过程中产生的误差进行了讨论。采用测量衍射角的方法进行了栅距检测试验,由变栅距光栅和等栅距光栅作出的拟合曲线表明:相位扫描方法是加工具有亚纳米栅距增量的VLS光栅的有效方法,该方法对超精密定位也具有借鉴作用。     

用拼接法获取大面积衍射光栅

近年来大面积衍射光栅已成为许多大型高技术工程项目的关键元件,它的获取方法也一直是光栅界探求的目标,本文简要回顾衍射光栅研制技术的发展历史,介绍了衍射光栅的发展趋势以及国内外研制大面积衍射光栅的技术现状,说明了拼接光栅的原理、方法以及利用这种方法来获取大面积衍射光栅的诸多优点.目前拼接光栅中各小光栅的衍射波阵面的位相还没有做到完全一致,要做到一致还需做很多工作,但用拼接手段来获取大面积光栅已是一种非常有效的方法.     

变栅距衍射光栅的原理及应用

变栅距衍射光栅(VLS)在像差校正等方面具有突出优点,采用不同的栅距变化规律的变栅距光栅具有不同的光谱特性,因而在众多的高技术领域获得了广泛应用.本文从VLS的像差校正原理出发,较全面地阐述了VLS在真空紫外和软X射线、高分辨率光电探测器、表面干涉计量以及光纤通讯等领域的应用,并针对其技术特点指出了它的发展趋势.     

一种二维光栅干涉仪的研究

本文描述了一种以二维正交反射光栅为计量基准元件,以透射光栅为分光元件的二维光栅干涉仪,从研究光栅表面的光扰动出发,分析了这种干涉仪的原理及所用光栅间的匹配关系,通过实验分析了干涉仪的调整方法及主要误差,实验结果表明：这种新型二维光栅 的精密线值计量方面有着良好的应用前景。