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王朝勇 《数字社区&智能家居》2005,(8):87-87
与其它的网络软件一样,使用Xplus必须先注册成为它的用户。单击功能栏的“首页”按钮来到注册页面,注册比较简单填上如图的信息并单击提交就完成了,注册成功会给你一个用户ID号码(数字),以后你就用这个ID号登录酷乐志。 相似文献
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王朝勇 《数字社区&智能家居》2005,(9):35-36
在WORD中录入一个带圈的字符并不难,点击“格式→中文版式→带圈字符”就可以轻松办到。可是,我比较习惯使用WPS,也经常会遇到要录入带圈字符的问题,那么在WPS中如何制作带圈的字符呢? 相似文献
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广义克尔介质对双模压缩真空场原子相互作用系统光场量子特性的影响 总被引:3,自引:3,他引:0
运用全量子理论,研究了存在广义克尔介质时,双模压缩真空场与二能级原子相互作用系统中光场的量子特性,着重讨论了介质与辐射场的耦合强度x以及广义克尔介质的非线性阶数m对光场量子特性的影响。 相似文献
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本文在分析南方季节性缺水灌区特点的基础上,对南方季节性缺水灌区农业节水技术适用性及节水技术推广难点进行了分析,并对节水技术研究推广工作提出了一些建议。 相似文献
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目的研究低温条件下高折射率锐钛矿结构TiO_2薄膜的制备条件及影响因素。方法用直流磁控溅射技术(DCMS)和改进的直流磁控溅射技术(能量过滤磁控溅射技术,EFMS)制备TiO_2薄膜。采用正交试验方法研究DCMS技术工艺参数对TiO_2薄膜的影响,确定了低温制备高折射率锐钛矿TiO_2的最优制备条件,在该最优制备条件下,又采用FEMS技术制备了TiO_2薄膜,并对比两种技术制备的薄膜。TiO_2薄膜的微结构用X射线衍射和Raman光谱衍射进行表征,样品的表面形貌用扫描电镜SEM进行观察,薄膜的光学特性用椭偏光谱仪测试、拟合处理得到。结果在较低的温度100℃下,利用DCMS和EFMS技术制备的TiO_2薄膜具备良好的单一锐钛矿结构。EFMS技术制备TiO_2的孔隙率为4.7%,550 nm处的折射率为2.47,平均晶粒尺寸为12.5 nm。经计算,DCMS和EFMS技术制备的TiO_2薄膜的光学带隙分别为3.08 e V和3.37 e V。结论利用DCMS技术和EFMS技术可在低温制备出锐钛矿TiO_2薄膜,EFMS技术制备的薄膜孔隙率较低,折射率较高,晶粒较均匀细小,光学带隙较大。 相似文献
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磁控溅射是一种广泛应用的薄膜制备技术。能量过滤磁控溅射是对磁控溅射技术加以改进后的一种薄膜制备技术。通过改变能量过滤磁控溅射技术过滤电极网孔大小制备TiO_2薄膜,研究了网孔目数对薄膜物相结构、表面形貌以及光学性质的影响,并与磁控溅射技术制备的TiO_2薄膜进行了对比研究。结果表明:(1)能量过滤磁控溅射技术较磁控溅射技术所制备薄膜的结构均匀性更加优异,薄膜的透射率由86.5%增大到91.4%、波长500nm处折射率由1.61增加到1.68、波长300nm处消光系数由0.42降低到0.12;(2)能量过滤磁控溅射技术过滤电极网孔目数不同时薄膜的结晶性能、表面粗糙度以及光学性质均存在差异,且随网孔目数的增加呈周期性变化;(3)过滤电极网孔目数为8目时,薄膜的结晶性能较好、薄膜较为均匀、透射率较高,为91.4%。 相似文献
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在Al2O3陶瓷衬底上用直流磁控溅射技术沉积过渡层Mo,再利用微波等离子体化学沉积系统在Mo过渡层上制备非晶碳薄膜,利用X线衍射(XRD)、拉曼(Raman)和电镜扫描(SEM)技术分析了薄膜的结构和表面形貌,测试了所制备样品的场发射及其发光特性,研究了薄膜的场发射特性。结果表明,所制备的薄膜为非晶碳和Mo2C的复合薄膜。所制备的薄膜具有较好的场发射特性,开启场强为0.74V/μm,1.8V/μm的场强下发射电流密度达到6 800μA/cm2,且发光点分布均匀,利用迭代法计算了所制备薄膜的有效场发射面积和其功函数。 相似文献