工艺条件对HZSM-5催化剂噻吩烷基化反应性能的影响

采用碱和柠檬酸依次处理HZSM-5分子筛,制备出具有微孔-介孔多级孔HZSM-5催化剂,记为HZ(AC-0.5),通过X射线衍射(XRD)、比表面积(BET)、氨气程序升温脱附(NH3-TPD)等方法对改性前后的催化剂进行表征,并在小型固定床反应器上,考察了工艺条件对催化剂噻吩烷基化反应的影响。结果表明:在反应温度为120℃,反应压力为1.0 MPa,体积空速为1.0 h-1的条件下,HZ(AC-0.5)催化剂的噻吩烷基化转化率最高可达95.6%;催化剂反应重复进行5次后,噻吩的转化率明显下降,说明催化剂已经失活;对失活的催化剂进行高温处理再生后,其噻吩转化率为91.3%,说明高温处理后的再生催化剂依然具有较强活性。     

紫外纳米屏蔽材料的研究及应用进展

综述了常见紫外纳米屏蔽材料的国内外研究进展。介绍了纳米紫外屏蔽材料常见的制备方法,并阐述了纳米ZnO、TiO_2、CeO_2及其复合纳米材料的制备与性能。综述了纳米紫外屏蔽剂在PMMA塑料制品、纺织品、化妆品、颜料及涂料领域的应用。最后对纳米紫外屏蔽材料的研究进行了展望。