国外MCM及其主要制造技术的发展现状

MCM具有胜过PCB、LSI和一般HIC的诸多优点,正在逢勃发展,可望成为九十年代的代表性技术。本文从市场和技术两个方面评述MCM的发展潜力,重点介绍近年来国外MCM主要制造技术的现状及发展态势,试图引起人们对它的关注。     

紫外可见光谱法测量光刻胶的膜厚

在液晶显示器的制造过程中,光刻是极为重要的制造工艺过程之一。将厚的独立的负胶膜或者将光刻胶涂敷在二氧化硅衬底上以后,可以测量其膜厚,因为光刻胶膜厚决定其光刻工艺的工艺条件。能够快速地测量光刻胶的膜厚,是液晶显示器制造过程的先决性工作的一部分。文章提出了测量上述光刻胶膜厚的新方法,即利用紫外可见吸收光谱法中的Beer-Lambert定律来确定膜厚。在我们的研究中,采用acrylic负胶作为基质(resin) ,它分别具有50μm和100μm的膜厚。在350 nm时,50μm的薄膜的最大吸收为0 .728 ,而100μm的最大吸收为1 .468 5。而在正胶的研究中,采用novolac作为基质(resin)。它的膜厚通常是1 ～5μm。在紫外可见吸收光谱测膜厚的实验中,当重氮荼醌的吸收波长为403 .8 nm时,5 .93μm厚的薄膜的最大吸收为1 .757 4 ,其膜厚是由扫描电镜测得的。而另一个正胶薄膜在403 .8 nm的最大吸收为0 .982 3 ,其薄膜厚度计算得到为3 .31μm。利用这些数据,我们得到了这两种光刻胶薄膜的紫外可见吸收光强与其膜厚关系的两个校准曲线。     

Y2O3:Eu电致发光膜的制备与结构表征

采用电子束蒸发和射频磁控溅射技术沉积了Y2 O3 :Eu电致发光薄膜 ,对膜进行了不同温度的大气热处理。用原子力显微镜 (AFM)观察了Y2 O3 :Eu膜的表面形貌 ,用X射线 (XRD)分析了Y2 O3 :Eu膜的结构 ,并对两种Y2 O3 :Eu膜的微结构和表面形貌进行了比较。结果表明 ,射频磁控溅射Y2 O3 :Eu膜与电子束蒸发Y2 O3 :Eu膜相比 ,结构更致密 ,表面更平滑 ,而且 ,在 90 0°C高温热处理后 ,溅射膜呈现单斜晶系结构 ,具有该结构的Y2 O3 :Eu膜适宜于作电致发光膜。     

SnO_2薄膜气敏元件

<正> 我们利用自制的S枪溅射系统,在微晶玻璃衬底上运用磁控反应溅射技术制备掺Pd的SnO_2薄膜。S枪是一种高速低温的磁控溅射源,又称锥形环状磁控溅射源。它具有体积小、靶形小、换靶易、靶材料利用率高、功率密度大、溅射速率高等特点。而且金属、高熔点材料、合金、陶瓷等均可作为镀膜材料。在反应气氛     

混合微电路在军事/宇航电子装备中的应用

现代军事／宇航装备的革新潮流主要是依靠先进的电子系统实现小型化、电子化、智能化，混合微电路是其中的重要基础元件。本文首先概要介绍混合微电路的技术优势、市场优势及其主要军用领域，然后列举若干实例比较详细地展示其在各个方面的具体应用，从而证实它在军事／宇航电子装备发展中的重要作用和巨大潜力。最后提出笔者的见解。     

SEMIKUBE B6CI功率组件面市

2005年3月1日法国Sartrouville讯，赛米控发布了全球组件制造网络开发的第一个产品系列。新的SEMIKUBE B6CI组件系列采用立方体的结构，其低电感的机电设计适用于220kW～900kW的传动系统。该组件制造网络是由9个赛米控组件制造中心构成的。SEMIKUBE B6CI功率组件是满足市场对产品标准化、结构紧凑、可维护和可扩展的灵活系统需求而推出的强制风冷的200A～1550A的变频系列。     

自对准MOSFET概述

一般的 MOSFET 工艺是用厚氧化物作为扩散掩蔽,因而需要光刻和重复对准步骤以确定短沟道区上的栅氧化物及栅电极。自对准 MOSFET 是用另一种方法制造的,其源和漏可与栅电极自动对准。自对准 MOSFET 已经并将要得到电子工业界日益增加的观注。     

利用胆固醇氧化酶转化胆固醇制备胆甾-4-烯-3-酮

用酶法催化氧化胆固醇制备胆甾-4-烯-3-酮相对于化学法合成具有反应简单、成本较低等优点.作者探讨了在正辛烷作为有机相的两相反应体系中,以胆固醇氧化酶催化氧化胆固醇制备胆甾-4-烯-3-酮的方法.在胆固醇质量浓度为40g/L,反应时间40min、反应温度40℃、磷酸缓冲液-正辛烷体积比32、通氧40L/h及搅拌转速300r/min下,胆固醇转化率达到92%,经薄板层析及紫外扫描,发现转化产物为单一的胆甾-4-烯-3-酮.     

一种基于CSI和RSSI的混合指纹定位方法

针对现有的基于WiFi的位置指纹定位方法精度低、计算复杂度高的问题,提出了一种基于 CSI和RSSI的混合位置指纹定位方法MixedFi(A Mixed Fingerprint Localization Based on CSI and RSSI)。该方法在离线阶段结合了传统的接收信号强度RSSI(Received Signal Strength Indication)与细粒度的信道状态信息CSI(Channel State Information)并将其作为原始位置指纹,有效利用各个接入点AP(Access Point)的信号特征信息,在线阶段引入空间聚类划分的思想对RSSI指纹地图进行合理划分,降低指纹空间的搜索时间。再通过主成分分析法PCA(Principal Component Analysis)提取CSI指纹特征,最后利用Kendall阶次相关系数自主选择近邻进行加权估计得到最终节点定位结果,解决了传统K近邻KNN(K Nearest Neighbors)方法定位精度低的问题。实验表明,与现有的基于单一指纹的定位方法相比,本文提出的方法有效降低了计算的复杂度?提高了定位精度。     

无电晕式高温静电除尘器新型阴极材料的试验研究

在不同的温度和电压条件下,对新近开发的阴极材料进行了实验研究。研究结果表明,温度和电压对阴极材料的电发射性能均有不同程度的影响。在高温(>850℃)条件下,只需施加较低电压(2 000～3 000 V)就可以获得0.8～1.2 mA/cm2的电流密度,发射极具有良好的稳定性,可在高温条件下长期使用。