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X型分子筛膜的制备及渗透性能的改善 总被引:5,自引:0,他引:5
采用多孔载体上预投分子筛晶种,再用水热晶化的二次生长的成膜方法合成X型分子筛膜。通过三次晶化操作,SEM显示多孔载体上负载生长的分子筛膜厚约15μm,分子筛膜的He和N2的渗透率下降为载体渗率的1%以下,纯三丁胺与全氟三丁胺的渗透率之比为21(350℃),但表征结果显示,膜层内存在缺陷。本研究采用了化学沉积与积炭处理相结合的二步修饰法来消除缺陷,结果表明,经二步修饰后,X型分子筛膜用三丁胺和全氟三丁胺的蒸气测试其渗透率,发现渗透侧全氟三丁胺几乎收集不到,比未修饰的膜的渗透率有很大提高,说明修饰对X型分子筛膜的非沸石孔道的消除很明显。 相似文献
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