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近些年随着光科技术整体水平的提高以及科学技术的发展,人们对于光刻机精细对针技术系统提出了更多更高的要求,文章就从这个背景出发,首先针对目前光刻机需要高精度的对准系统进行相应的分析和设计探讨,同时提出了一些相对实用的办法,最终要求的是能够满足高精度光刻机的需求,为此文章对光刻机精细对准进行了进一步的深入研究。 相似文献
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在微细加工和集成电路(IC)制造当中,光学光刻技术是毋庸置疑的主流技术。现在的Ic集成度越来越高,这就对光刻分辨力有了更好的要求。但光刻物镜数值孔径(NA)和曝光波长(入)在一定程度上限制光学光刻的分辨极限。作为一项新兴光刻技术的激光干涉光刻,不仅设备价格较低、结构简单,而且工作效率高、分辨率高、大视场曝光、无畸变、焦长深等许多独特之处,分辨极限更是达到了入/4的水平,在微细加工、大屏幕显示器、微电子和光电子器件、亚波长光栅、光子晶体和纳米图形制造等相关领域有很好的应用,极大拓展了这些领域在未来的进步空间。 相似文献
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苯乙烯与马来酸酐在引发剂(BPO)的作用下反应得到苯乙烯-马来酸酐共聚物(SMA),再与混合高碳胺酰胺化得到目标产物。通过正交实验对产率影响的研究,获得聚合反应的较优工艺条件:n(马来酸酐)∶n(苯乙烯)=1∶1,聚合反应温度80℃,溶剂用量(质量分数)90%,引发剂用量(以原料总量计)1.0%;通过酰胺化反应中各因素对降凝效果的影响,得到制备目标产物的较优条件:SMA与混合高碳胺摩尔比为1∶2,催化剂用量为1.5%,酰胺化时间为5h。当加剂量为0.3%时,试验原油可降低7℃。 相似文献
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以亚硫酸氢钠为磺化剂,对木质素磺酸钙进行磺化;以十六烷基二甲基叔胺、环氧氯丙烷为原料,合成了中间体(2,3-环氧丙基)十六烷基二甲基氯化铵;再以四丁基溴化铵为相转移催化剂,与磺化木质素磺酸钙(SL)的酚羟基反应,合成了木质素两性表面活性剂(LAS).通过正交试验确定了最佳磺化条件:磺化剂用量2.0 g,反应时间8 h,反应温度95℃,木质素磺酸钙的相对磺化度为1.284;LAS的最佳合成条件:m(SL∶)m(中间体)=1∶2.5,相转移催化剂用量为总质量的0.4%,pH=9,55℃反应3 h,产物中的含氮量为2.19%.通过傅里叶变换红外光谱、紫外光谱证实了目标产物结构;并进行接触角和表面张力测试,结果表明,LAS的分散性有明显改善. 相似文献
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