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流延坯片的叠层是多层陶瓷技术中最为重要的工艺之一。叠层工艺直接影响到电子器件三维结构(如通道、腔室及隔膜等)的质量。对叠层工艺如热压法叠层及其改进型技术、粘合基叠层、溶剂基叠层等进行综述,并对各种叠层方法的特点、研究进展及应用进行叙述。 相似文献
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采用掠射角反应磁控溅射法在室温下沉积了纳米结构氧化钨(WO3)薄膜, 并对薄膜进行热处理。利用场发射扫描电镜(FE-SEM)和X射线衍射仪(XRD)对氧化钨薄膜的形貌和结构进行了表征。当掠射角度为80°时, 采用直流电源沉积的氧化钨薄膜具有纳米斜柱状结构, 而采用脉冲直流电源沉积的薄膜呈现纳米孔结构。纳米薄膜经450℃热处理3 h后, 纳米斜柱彼此连接, 失去规整结构, 而纳米孔结构的孔尺寸变大。XRD分析表明室温沉积的氧化钨薄膜具有无定形结构, 经450℃热处理1 h后, 转变为单斜晶相。具有纳米斜柱状或纳米孔结构氧化钨薄膜的光学调制幅度在波长600 nm时达到60%, 且电致变色性能可逆。 相似文献
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通过对堇青石水基流延浆料体系的研究,获得了流动性、稳定性良好的浆料。所制备出的流延坯片可以在较低的温度下烧结,坯片的致密性较好,相对密度较高,且具有良好的介电性能。重点对坯片的叠层进行了研究,结果表明,流延坯片可以在室温下实现良好的叠层。在2.5MPa的压力下,5层坯片结合良好,但当层数增加到10层时,试样中会有气孔出现,烧结性能变差,适当提高叠层的压力可以使烧结性能改善。该方法与热压法相比,叠层的压力和温度均较小;与溶剂法和粘合法相比,不需要额外的添加剂。 相似文献
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采用反应磁控溅射在掠射角度α=0°和α=80°的条件下制备氧化钨(WO3-x)薄膜,然后在其表面沉积二氧化钛(TiO2)。利用X射线衍射仪(XRD)、场发射扫描电镜(FE-SEM)和X射线光电子能谱仪(XPS)对WO3-x/TiO2薄膜的晶体结构、表面/断面形貌以及表面化学成分进行表征。在三电极体系1 mol/L LiClO4/PC溶液中,采用电化学工作站和紫外-可见分光光度计测试了WO3-x/TiO2薄膜的电致变色性能。XRD结果表明,WO3-x/TiO2薄膜为非晶态结构,与掠射角度无关。当掠射角度为80°时,获得了纳米柱状多孔薄膜。从 W 4f和Ti 2p的XPS谱图确认氧化钨为亚化学计量比的WO3-x,而氧化钛为满足化学计量比的TiO2。与致密薄膜相比,纳米柱状多孔薄膜需要较低的驱动电压且具有较快的响应速度。纳米柱状多孔薄膜的电荷容量为83.78 mC,是致密薄膜电荷容量30.83 mC的2倍以上。在±1.2 V驱动电压下,注入和脱出离子扩散速率分别为Din=5.69×10-10 cm2/s和Dde= 5.08×10-10 cm2/s。与纯WO3薄膜相比,WO3-x/TiO2薄膜的电致变色循环稳定性更好。纳米柱状多孔薄膜在可见光范围内具有较大的光调制幅度,因此其光密度变化(ΔOD)大于致密薄膜。 相似文献
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多孔陶瓷因其独特结构和优异性能在汽车尾气净化领域得到广泛应用。综述了汽车尾气催化净化器载体的研究进展,着重介绍近年来为提高净化效率而新开发的多孔陶瓷载体材料,并初步展望今后的研究发展趋势。 相似文献
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