离子辐照钨基上碳薄膜微结构的分析

对钨基材料表面上射频磁控溅射沉积的碳膜进行了氩离子和氮离子的辐照,并作了ＸＲＤ及ＸＰＳ的分析。分析结果表明,不同离子辐照引起碳膜微结构的变化亦不同,。氮离子辐照不仅使碳膜元素与基体元素发生混合,而且导致碳膜发生相变,生成碳－化合物,如α－Ｗ２Ｃ、ＷＣｘ,同时氮离子本身与反应生成氮－钨化合物,如ａ－ＷＮ。     

镍对钢结合金与普通碳钢焊接性能的影响

含镍量不同的钢结合金与普通碳钢通过不锈钢焊条或硬质合金焊条进行焊接 ,并对焊接剖面作显微组织结构观察以及界面区域的显微硬度及抗拉强度的测试。研究结果表明焊接件的抗拉强度不仅与钢结合金中镍含量有关 ,也与焊条材料有关。     

电子回旋共振等离子体源的特性

简要描述了一台频率为２．４５ＧＨｚ的电子回旋共振（ＥＣＲ）等离子体源的特性测试,结果表明,放电室内的等离子体密度和电子温度与静态磁场、微波输入功率和真空度等参数均有着密切关系。当磁场达到共振条件８７．５ｍＴ时,等离子体很易产生,但等离子体密度的最大值却出现在９３ｍＴ处。ＥＣＲ源在真空度为０．１－１Ｐａ间均能运行。由石英、Ａｌ２Ｏ３陶瓷和ＢＮ构成的微波输入窗有良好的阻抗匹配,在微波功率为２００－７０     

氮离子注入钨的微观分析

对不同剂量N 离子注入钨的试样进行了XRD及XPS微观分析 ,研究注入层的元素、成分、化学态以及有关的相结构。结果表明 ,注入层除了单质W外 ,还有氧化物WO3 ,氮 氧 钨的化合物 ,如Wx(N ,O)以及氮化物δ WN ,随着氮离子注入剂量的增加 ,Wx(N ,O)减少 ,而δ WN量增加 ,污染物WO3 也相应减少。文中对有关机理作了相应的探讨。     

电子回旋共振离子源的研制及应用

描述了一台电子回旋共振离子源的设计,结构及特性。及了获得离子源的长寿命,较高的等离子密度以及高效的传输微波功率,利用合适的三层微波输入窗是很有效。采用两个带有磁轭的螺线管线圈能够产生满足共振条件和约束等离子的轴向磁场。     

氮离子注入钨的微观分析

对不同剂量Ｎ＾＋离子注入钨的试样进行了ＸＲＤ及ＸＰＳ微观分析，研究注入层的元素、成分，化学态以及有关的相结构，结果表明，注入层除了单质Ｗ外，还有氧化物ＷＯ３，氮－氧－钨的化合物，如Ｗｘ（Ｎ，Ｏ）以及氮化物δ－ＷＮ，随着氮离子注入剂量的增加，Ｗｘ（Ｎ，Ｏ）减少，而δ－ＷＮ量增加，污染物ＷＯ３也相应减少，中对有关机理作了相应的探讨。