PMMA在LIGA技术中的应用

合成了用于LIGA微细加工技术的聚甲基丙烯酸甲酯抗蚀剂,采用同步辐射装置X射线深度曝光,可得到深宽比45－90,深度大于450微米,细线宽5－10微米的良好光刻图形。     

甲基丙烯酸甲酯共聚物作为LIGA抗蚀剂的研究

设计合成具有头－头结构的甲基丙烯酸甲酯共聚物以及含大空间侧其的甲基丙烯酸甲酯共聚物,研究了它们为LIGA技术用抗蚀剂的光敏性能,结果表明适当大小空间侧基的引入,有助于改善烯酸甲酯抗蚀剂的光敏性。     

树状分子引发苯乙烯的原子转移自由基聚合

从第2代端羟基树状聚芳醚出发,合成了2－溴异丁酸聚芳醚酯（G2－Br),并用红外,核磁,MALDI－TOF质谱和元素分析对其进行了表征,以C2-Br为大分子引发剂,在CuBr/2,2′－联吡啶催化作用下引发苯乙烯的原子转移自由基聚合。考察了聚合时间,单体和引发剂配比,聚合温度等因素对聚合的影响,合成了结构规整,分子量分布较窄的树状－线型嵌段共聚物。