光刻投影物镜畸变检测中的位移测量误差分析

在光刻投影物镜的畸变检测中,位移测量误差是光刻投影物镜畸变检测的重要误差源之一,深度分析误差源并减小误差项,可提高光刻投影物镜的畸变检测精度。本文将运动台的定位与测量技术相结合,着重分析利用夏克-哈特曼波前传感器对投影物镜进行畸变检测时像质检测台的位移测量误差。并以一套投影物镜像质检测台为例,对其在投影物镜畸变检测中的位移测量误差进行分析,利用该像质检测台对某一投影物镜进行畸变检测,畸变检测结果约80 nm,其中该像质检测台的位移测量误差会给畸变检测结果带来约22 nm的不确定度。     

基于改进六步翻转法的平行平板面形及均匀性绝对检测方法

本文提出了一种改进六步翻转法,同时实现平行平板均匀性以及绝对面形的测量,结合相应的稀疏迭代算法,进一步实现高精度的均匀性和绝对面形误差的重构.通过相应的理论分析和实验验证工作,进一步证明了该方法的有效性和达到亚纳米级检测精度的能力.利用本文所提出的方法与传统绝对平面检测方法以及材料均匀性测量方法进行交叉对比,其中绝对平...     

双差动快速结构光显微测量方法和系统

快速结构光显微测量技术具有高精度、高效率以及强适应性等特点,广泛应用于微纳检测领域。传统的快速结构光显微测量方法,利用轴向调制度响应曲线的线性区域,通过构建调制度值与实际高度之间的关系来实现三维形貌重建。但是,轴向调制度响应曲线的线性区域很短,传统方法的应用受限于其较窄的动态测量范围。为了克服这一缺陷,提出了一种双差动快速结构光显微测量技术。通过引入两条额外的探测支路构建双差动轴向调制度响应曲线,可以获得更宽的线性区域。在数值孔径为0.9,放大倍率为100倍的显微物镜条件下,其测量范围在仿真分析中可从380 nm提升到760 nm,在实验中可从300 nm提升到600 nm。仿真与实验结果均证明双差动快速结构光显微测量方法的动态测量范围相比传统方法的动态测量范围提升了一倍,有效地拓展了快速结构光显微测量技术的应用范围。     

5G定位关键技术与标准进展

5G网络在多种场景下提供位置服务，并对定位性能提出严格的要求。首先，结合3GPP 5G高精度定位的标准制定过程，介绍了3GPP定位性能需求和5G定位各个标准版本的定位功能规划；其次，重点介绍了5G网络辅助北斗全球卫星导航定位关键技术和标准进展；然后，分析了基于5G侧行链路信号定位的网络架构、关键技术和标准进展；最后，对6G定位标准演进发展方向进行了展望。     

光刻物镜波像差绝对检测技术综述

光刻物镜是光刻机核心部件，其波像差大小决定着光刻机的分辨率和套刻精度。随着光刻机性能的逐步提升，光刻物镜波像差要求已经降低到0.5 nm (RMS)以下，这对波像差的检测是一个极大的挑战。现行的光刻物镜波像差检测方法 (如哈特曼法，剪切干涉法和点衍射法等)的检测精度往往受限于其系统误差，而绝对检测技术是一种能够将系统误差分离出来的技术，最终突破精度极限。本文回顾了光刻物镜系统波像差检测方法和波前绝对检测技术，详细梳理了绝对检测技术在不同波像差检测方法中的应用和研究进展，重点总结了绝对检测技术在不同波像差检测方法中的技术难点，同时结合这些难点，展望了光刻物镜波像差绝对检测技术的未来发展趋势。     

双通道偏振复用可擦除介质型全息超表面

为进一步增强加密或存储器件的实用性与安全性，设计并实现了一种多通道偏振复用的相变全息超表面，通过在多通道全息超表面设计中引入相变介质，实现了动态的可擦除功能。当耦合相变介质层处于非晶态时，所构造的编码超表面可以产生两个独立成像的全息通道。当相变介质变为晶态时，决定相位调控的交叉偏振被关闭，对应的相位编码“被擦除”。