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测量了研磨-退火硅样品的椭偏光谱,用OL模型和有效介质理论进行分析,发现椭偏谱的差分既不完全符合OL模型又不完全符合有效介质理论.我们发展了OL模型,把OL模型和有效介质理论结合起来,提出了一种改进的OL模型,特征上较好地与实验结果符合. 相似文献
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