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对集成电路总剂量加固技术的研究进展进行了分析。集成电路技术在材料、器件结构、版图设计及系统结构方面的革新,促进了总剂量加固技术的发展。新的总剂量加固技术提高了集成电路的抗总剂量能力,延长了电子系统在辐射环境下的使用寿命。文中总结了近年来提出的新型的总剂量抗辐射加固技术,如采用Ag-Ge-S、单壁碳纳米管材料(SWCNT)、绝缘体上漏/源(DSOI)器件结构、八边形的门(OCTO)版图、备用偏置三模块冗余(ABTMR)系统等加固方法,显著提高了器件或电子系统的总剂量抗辐射能力。研究结果有助于建立完整的总剂量加固体系,提升抗辐射指标,对促进总剂量加固技术的快速发展具有一定的参考价值。 相似文献
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提出了一种基于1553B总线的收发器系统结构,设计实现了低压单电源供电的1553B总线收发器,有效降低了收发器的动态功耗。仿真及测试结果表明,该电路能在3.3 V的低电压下实现所有的收发功能,总线占空比为100%时的最大动态功耗仅为0.5 W,相比于5 V供电的1553B总线收发器,其动态功耗大约下降了1.7 W。该收发器采用0.5μm DPTM BCD (15 V)工艺流片,并已成功应用到低压的1553B总线产品中。 相似文献
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介绍了一种由两个交叉耦合反向器构成的6-晶体管(6-T)存储单元的噪声容限分析方法.对6-T CMOS SRAM单元的稳定性作了分析及仿真.借助SPICE和MATLAB工具,对存储单元在数据保持和数据读取时的稳定性、数据写入过程中的可靠性及其之间的关系进行了深入研究.对可能影响噪声容限的因素,如单元比、上拉比、MOS管的阈值电压、位线预充电压、电源电压以及温度进行了仿真讨论,并从中得到合适的电路设计参数.流片结果表明,理论分析与实测数据相符.分析数据对基于CSMC O.5μm CMOS工艺的SRAM电路设计优化具有指导作用. 相似文献
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采用红外图谱分析、扫描电镜及金相切片显微组织分析等方法分析了聚碳酸酯(PC)/丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物(ABS)塑料电镀成品表面漏镀的形成原因。结果表明,漏镀集中位置的组分含量存在差异,进而引起制件粗化异常,导致成品漏镀问题。 相似文献
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