微波电子回旋共振等离子体金属内壁镀膜装置及其实验研究

1引言在筒形内壁上镀出耐腐蚀、耐磨、耐高温的材料，这无论是在国防上还是在民用上都具有非常重要的意义。由于在金属管内壁上化学汽相沉积镀膜是一个比较困难的问题，使得这方面的工作一直难以突破。等离子体辅助化学汽相沉积镀膜（PECVD）已经得到广泛的应用。利用微波电子回旋共振（ECR）产生等离子体进行镀膜已获取了多种薄膜，如金钢石［’j、氧化硅‘”、碳化硅［‘’等。应用ECR等离子体具有无电极污染、低气压运行、低温沉积的优点。本文利用等离子体化学汽相沉积原理及等离子体动力学原理，建立了一台内壁镀膜装置。2实验装…     

单片机在ECR等离子体刻蚀机上的应用

介绍了智能化洗衣机的模糊控制器结构，分析了布质布量、水位、浑浊度等三种传感器的原理、结构及电路，提供了实用洗衣机模糊控制器的电气原理图及主要的软件流程图。     

ECR－PECVD制备Si_3N_4薄膜的特性及其应用的研究

本文利用ＥＣＲ－ＰＥＣＶＤ技术在不同沉积温度下制备了Ｓｉ３Ｎ４薄膜，利用Ｓｉ３Ｎ４薄膜的透射光强度曲线计算了Ｓｉ３Ｎ４薄膜的折射率和膜厚，计算结果与实测值符合较好。结果表明，随着沉积温度的提高，Ｓｉ３Ｎ４薄膜的折射率增大，致密性提高，Ｓｉ３Ｎ４薄膜厚度在６０ｍｍ直径范围内不均匀度小于５％。测定了Ｓｉ３Ｎ４薄膜的显微硬度。利用荧光分光光度计测定了Ｓｉ３Ｎ４薄膜的光致发光效应。初步进行了Ｓｉ３Ｎ４薄膜的超高频大功率晶体管器件中作为钝化膜的应用研究。     

微波电子回旋共振等离子体刻蚀研究

研究了线圈、多极混合磁位形ECR等离子体及刻蚀特性。静电探针测量结果表明，在φ200mm，φ100mm范围内等离子体离子流强径向不均匀性为±21．5％，±5．3％。4英寸片片内刻蚀不均匀性≤±0．5％，0．25μm线宽刻蚀方向性为0．75。并结合等离子体特性及刻蚀机理，对有关结果进行了分析。