高离化态类铁、类钴、类镍等电子序列离子的能级结构

用多组态自治场方法,系统地计算了高离化态类铁电子序列ＦｅＩ～ＸｅＸＸⅨ离子３ｐ＾６３ｄ＾８、３ｐ＾５３ｄ＾９组态、类钴等电子序列ＣｏＩ～ＸｅＸＸⅧ３ｐ＾６３ｄ＾９,３ｐ＾５３ｄ＾１０,３ｐ＾６３ｄ＾８４ｐ组态、类镍等电子序列ＮｉＩ～ＸｅＸＸⅦ离子３ｐ＾６３ｄ＾９４ｓ,３ｐ＾６ｄ＾９４ｐ,３ｐ＾６３ｄ＾９４ｄ组态的能级。计算结果与实验值符合得较好。     

适宜图像编码的双正交小波基的选择

提出一种新的选择适合图橡编码应用的双正交小波基的方法。通过用几个已证实是与图像编码密切相关的小波基评价标准对小波进行全面评价，选出了一些适宜图像编码应用的双正交小波基，并作了编码模拟检验。     

等离子体喷涂并经压缩处理的铁合金涂层的正电子寿命谱研究

用正电子寿命谱方法结合硬度测试手段,对等离子体喷涂Ｆｅ合金涂层压缩处理后的微观结构及缺陷进行了研究,提出了该涂层材料压缩致密的微观机制。     

双层等折射率浮雕结构共振布儒斯特滤光片的泄漏模特性

通过调整光栅的填充系数,获得具有均质层和光栅层等效折射率相等的表面浮雕结构共振布儒斯特滤光片.深入研究了这类滤光片的泄漏模特性,并讨论光栅参数和入射条件的变化对滤光片共振特性的影响.研究表明:入射角的改变对滤光片泄漏模特性的影响不明显,但填充系数、均质层厚度以及基底折射率的改变对滤光片泄漏模特性影响很大.当填充系数f→1和f＜0.6时,以及当基底折射率接近波导层折射率(n→1.63)时,导模共振效应趋于消失.此外,随着均质层厚度的不断增大,多模共振效应将被激发,从而在一定的波长或入射角范围内导致多个泄漏模共振效应的产生.