DESIGN AND PERFORMANCE OF SHAPING DEFLECTORS FOR VARIABLY SHAPED ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY

In order to obtain uniform exposure in variably shaped electron beam lithography,the beam current density and edge resolution on the target must not change for different spotshapes and sizes.The key to the goal is the appropriate design of shaping deflectors.A linearand rotation compensation approach is presented.Values of linear and rotation compensationfactors versus the distances between electron source image and centers of deflectors are measuredon an experimental electron beam column with variable spot shaping.The experimental resultsare in good agreement with the calculated ones.     

法国电子光学实验室简介

法国电子光学实验室位于法国图卢兹市的南郊。图卢兹市是法国第四大城市,离巴黎七百多公里,是宇航中心,同时也是重要的文化教育、科学研究和军事工业基地。一九八二年图卢兹市与我国重庆市结为友好城市。法国电子光学实验室是法国国家科学研究中心下属的最大的实验室之一。创立于一九四     

探针振动法测定旋转对称磁透镜的场分布

电磁透镜是电子显微镜和微分析仪器等电子光学仪器的基本元件。电磁透镜的特性尤其是物镜决定着这些仪器的主要性能。如果我们知道了电磁透镜的轴上场分布,则它的电子光学特性就可以计算出来。探针振动法就是用来直接测量旋转对称电磁透镜的轴上场分布的一种设备,它可以简单、迅速地测量一个透镜的真实场分布。一般用计算机的方法只能得到假定的理想的透镜场分布,而各种复杂的实际情况是难于考虑的。探针振动法是根据电磁感应原理,使测量探针在被测量的透镜中作正弦式振动,感应出电动势,此电动势正比于所测量点的电磁感应强度。让探针振动的同时沿透镜轴移动,就可以测得整个透镜的轴上场分布。     

变形电子束曝光机成形偏转器的设计和性能

在变形电子束曝光机中,为使曝光均匀必须保证靶上束斑电流密度物边缘分辨率不随束斑形状和尺寸的变化而改变。实现这一目标的关键是正确设计成形偏转器。本文讨论采用高灵敏度平行板偏转器实现成形偏转时,为达到上述目标应进行的线性补偿和旋转补偿的设计计算方法。给出了用实验方法改变电子源象与偏转板几何中心的轴向距离所测得的线性补偿因子和旋转补偿因子的值。实验结果与计算值符合较好。     

DJ—2可变矩形电子束曝光机

电子束曝光机用于制造超大规模集成电路掩模版。它由电子光学柱、工件台、图形发生器、计算机及控制系统组成。可变矩形电子束曝光机,具有生产效率高,图形产生灵活等优点。束斑形状的变化是通过投影两个方光栏的象来实现的,用静电偏转的方法把第一方光栏的象相对于第二方光栏移动,两者重合组成的矩形象经缩小并投身到工件台上得到一个可变的矩形束斑。     

一种工作在30kV的四极场发射电子枪

场发射电子枪具有亮度高、束斑小和能量分散小等优点。但在三极场发射电子枪的情况下,吸极电压或加速极电压的任何改变都会引起电子光学特性的改变。特别是交叉点位置的变化很大,因而很难使场发射电子枪工作在最佳状态。为了解决这个问题,必须使三极场发射电子枪工作在加速电压对吸极电压的比值大于12的范围;或者采用四极场发射电子枪。场发射电子枪的理论计算是比较复杂的,这里采用法国图卢兹电子光学实验室的方法,把阴极和吸极间的空间当作等电位空间来处理,用“有限元”法计算电场分布,并得到了一组工作在30kV的四极场发射电子枪的特性曲线。