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我们报道了一种“金属-量子点-金属”结构的自对准制备方法。该方法主要包括“电子束曝光-薄膜淀积-刻蚀”工艺,具有套刻容限大、开发周期短以及可兼容多种材料等优点,尤其适用于具有类似结构的纳米器件制备。该方法中使用的牺牲层工艺和强化版图,降低了剥离工艺的难度,提升了可制备器件结构的力学强度。最后,作为应用实例,我们用该方法制备了尺寸为 255 nm × 45 nm × 30 nm( 长 × 宽 × 高)的相变节点。 相似文献
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本文对目前住宅小区内的景观水体存在的问题和原因作了简单的分析,综述近年来景观水体比较典型的污染控制技术及其机理。景观水体水质保持技术在工程实施中需要根据实际情况对其进行选择、优化、组合,才能获得满意的处理效果。 相似文献
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低影响开发(LID)措施可有效缓解城市暴雨径流对地区的影响,但不同的LID措施综合布设时可能会相互影响。为研究不同子汇水区域内布设的LID措施之间的相互影响,选取张家港市老城区为例,以构建SWMM模型为研究手段,选取透水路面、雨水桶、下凹式绿地3种LID措施,对研究区域进行概化。分析了在遭遇2、5、10、20年一遇暴雨重现期情况下单独布设1种LID措施和LID综合布设情况下径流的变化情况。结果表明,这3种LID措施对径流系数的削减效果透水路面最好,雨水桶和下凹式绿地效果相当,而当不同方案组合布设时,它们之间相互影响,对径流的削减效果不是简单的叠加关系。 相似文献
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通过对绝缘电阻测定值的分析和研究,我们可以及时发现电线电缆生产制造过程中存在的问题以及缺陷,可以更好的保证绝缘材料的质量和安全。对于电压-电流法测定电线电缆绝缘电阻的不确定度评定进行分析具有很好的借鉴意义。 相似文献
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This paper mainly focuses on solving the low yield problem for lateral phase change random access memory with a fully confined phase change material node. Improper over-etching and bad step-coverage of physical vapor deposition were the main reasons for the poor contact quality, which leads to the low yield problem. Process improvement was carried out to better control over-etching within 10 nm. Atomic layer deposition process was used to replace physical vapor deposition to guarantee good step coverage. Contrasting cross-sectional photos taken by scanning electron microscopy showed great improvement in contact quality. The atom layer deposition process was demonstrated to have good prospects in nano-contact for phase change memory application. 相似文献
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