丹江口水库建库前后沿程水位流量关系变化及其对下游防洪影响的 …

根据１９５５￣１９９５年丹江口水库下游沿程各站水文泥沙等原型观测资料，运用函数变量关系的中心线法，对其水位流量关系历年变化进行数理统计分析。分析结果表明，丹江口水库建库前后沿程水位流量关系变化与其水位面积关系变化基本相似，对其下游防洪问题影响不大。分析成果将为丹江口水库运行管理、预报调度及长江三峡水库的类比研究等提供科学依据。     

用三坐标测量机测定渐开线圆柱齿轮的主要参数

本文介绍利用三坐标测量机测定渐开线圆柱直齿轮及斜齿轮的主要参数，该方法能对不完整的齿轮样品进行测绘。     

攀钢钛白回转窑改造

详细介绍了攀钢4000t/a硫酸法钛白粉厂回转窑改造的几点经验，通过对攀钢钛业公司回转窑提质，扩能的改造，做到挖掘设备潜能，提高设备利用率，提高煅烧钛白粉质量。     

Spin Dependent Hopping in Ti Doped La0.67 Ca0.33 MnO3

A systematic investigation of the magnetic and transport properties of Ti doped La0.67Ca0.33MnO3 was reported. The Ti substitution for Mn ions results in a reduction in ferromagnetism and conductivity. The metal-insulator transition temperature is close to Curie temperature which decreases from 274 to 82 K as x increases from 0 to 0.17. The most important effect of Ti doping is to introduce spin clusters in the samples due to the distortion of local lattice and the inhomogeneous magnetic structure induced primarily by the random distribution of Mn ions. A maximum magnetoresistance ratio as large as 90% in 1 T at 122 K was obtained for the sample with x =0. 055, which is four times larger than that obtained for LCMO sample at 272 K. There is a remarkable field-history dependent MR in the cooling process for the doped samples while such phenomenon disappears in the warming run. The resistivity follows well the variable range hopping behavior in paramagnetic state. Both the size effect and spin dependent hopping of carriers between the spin clusters should be considered in this system.     

基于可编程逻辑阵列的RS232至RS422的串行口扩展电路

介绍了利用可编程逻辑阵列把1路RS232扩展至4路RS422的串行口电路设计方法。该扩展电路不占用PC系统资源，同时具有结构简单，使用方便，通用性和可补性强等特点，可广泛应用于主从式多机通讯系统中。     

GPRS业务模型和无线网络的研究

根据GPRS业务及业务发展情况，对GPRS业务模型进行深入研究，并对GPRS无线网络进行了更深入的探讨。     

棒材连续剪切产生偏剪原因分析及解决措施

对棒材在摆剪连续剪切过程中出现跑偏的原因，进行了探讨和分析。并采取有效措施进行消除。解决了长期影响摆剪使用寿命及剪切质量的偏剪难题。     

中频反应溅射SiO2膜与直流溅射ITO膜的在线联镀

多数ITO透明导电玻璃生产线在实现SiO2膜与ITO膜在线联镀时，应用SiO2靶射频溅射沉积SiO2膜工艺和ITO靶直流溅射沉积ITO膜工艺，如果SiO2膜应用硅靶反应磁控溅射工艺，存在这种工艺是否可以与ITO靶直流溅射沉积ITO膜工艺在线联用以及如何实现联用的问题。作者对现有的生产线进行了改造设计、加工，做了大量实验、质谱分析和多项测试研究，成功地实现反应溅射SiO2膜与ITO膜在线联镀，做到SiO2镀膜室的工作状态的变化基本上不影响ITO镀膜室的工艺条件。