用MOS电容瞬态电流-电容法直接测定少数载流子的体产生寿命分布和表面产生速度

本文提出了一种灵敏方便的MOS电容瞬态电流-电容法,即I-C法,应用它可直接从MOS电容相关的瞬态电流I-t和瞬态电容C-t曲线方便地测定出耗尽层中少数载流子的体产生寿命分布τ_g(x_d)和表面产生速度S_g等参数.文中导出和分析了MOS结构较普遍的瞬态电荷、电流和电容方程,以及界面态密度N_(ss)(E_s)、寿命τ_g(x_d)和(τ|-)_g(x_d)、S_g的计算公式.从τ_g分布的测定结果可见,MOS结构中在约3μm宽的界面层内,从体内向界面τ_g明显下降.     

多晶硅晶粒间界的线性陷阱模型

采用深能级瞬态谱仪（ＤＬＴＳ）测试多晶硅ｎ＋ｐ二极管势垒区深能级谱。利用ＤＬＴＳ实验结果，对Ｇ．Ｂａｃｃａｒｉｎａ等提出的均匀陷阱模型进行修正，提出多晶硅晶粒间界的线性陷阱模型。运用该修正模型，可采用迭代法求得多晶硅电学参数──势垒高度Ｅｂ、电导率激活能Ｅａ与多晶硅掺杂浓度Ｎｃ间关系。计算结果表明，多晶硅晶粒间界的线性陷阱模型具有理论合理性。     

多晶硅间粒间界的线性陷阱模型

采用深能级瞬态谱仪（ＤＬＴＳ）测试多晶硅ｎ＾＋ｐ二极管势垒区深能级谱。利用ＤＬＴＳ实验结果，对Ｇ．Ｂａｃｃａｒｉｎａ等提出的均匀陷阱模型进行修正，提出多晶硅晶粒间界的线性陷阱模型，运用该修正模型，可采用迭代法求得多晶硅电学参数－势垒高度Ｅｂ、电导率激活能Ｅａ与多晶硅掺杂浓度Ｎｃ间关系。计算结果表明，多晶硅晶粒间界的线性陷阱模型具有理论合理性。     

集成化炉温自动控制仪

炉温自动控制仪是半导体器件等工艺线上的一种重要设备。为提高产品质量、生产效率和降低工人劳动强度,对工艺线上的氧化、扩散和合金等高温炉普及炉温自动控制,是许多半导体器件厂迫切希望解决的一个问题。为响应华主席为首的党中央抓纲治国、大干快上、实现四个现代化的伟大号召,为有利于半导体器件厂自力更生多快好省地改造现有设备。我们试制了一种新型的、结构简单、性能良好、易于制造、造价很低的集成化炉温自动控制仪。     

电子辐照微氮直拉硅单晶的深能级的研究

本文研究了电子辐照在氮保护气氛中生长的直拉硅单晶中引入的深能级。没有发现可检测的与氮有关的深能级。     

A186型梳棉机刺辊轴的改造

将刺辊轴由通轴改为短轴,并相应改动有关部件,避免磨损修复后达不到工艺要求。