原子层沉积低温生长α-MoO3薄膜

以六羰基钼和氧气为前驱体,通过等离子增强原子层沉积技术（PE-ALD）在硅基片上实现了α-MoO₃薄膜的低温制备。利用X射线衍射仪、扫描电子显微镜、原子力显微镜、X射线光电子能谱仪等手段对薄膜的晶体结构、表面形貌及薄膜成分进行表征和分析。研究发现衬底温度和氧源脉冲时间对MoO₃薄膜的晶体结构和表面形貌变化起关键作用。当衬底温度为170℃及以上时所制备的薄膜为α-MoO₃;适当延长ALD单循环中的氧源脉冲时间有利于低温沉积沿（0k0）高度择优取向的MoO₃薄膜。根据对不同厚度MoO₃薄膜表面的原子力显微图片分析,MoO₃薄膜为岛状生长模式。     

退火处理对二氧化锡纳米线性能的影响

采用化学气相沉积法在硅衬底上生长二氧化锡(SnO2)纳米线,并对其进行热处理.扫描电子显微镜、X射线衍射仪和拉曼光谱测试分析表明所合成的SnO2蚋米线为单一四方金红石相,且结晶性能良好.光致发光测试显示在576 nm附近有明显的黄色发光峰,但在氧气氛环境退火处理后该发光峰逐渐减弱,表明576 nm处的发光峰为氧空位缺陷引起的发光.同时,退火处理能有效提高材料的场发射性能,SnO2纳米线的最低开启和阚值电场分别约为4.6和6.2 V/μm.     

衬底表面处理对原子层沉积法生长GaN薄膜的影响

采用等离子增强原子层沉积技术于蓝宝石衬底上生长GaN薄膜,研究氮等离子体预处理衬底对薄膜结晶性能的影响.利用X射线衍射仪、扫描电子显微镜、原子力显微镜、X射线光电子能谱仪等手段对薄膜的晶体结构、表面形貌及薄膜成分进行表征和分析.结果表明,经预处理的蓝宝石衬底上生长的GaN薄膜晶体质量明显提高,沿c轴高度择优取向生长;光学带隙约为3.48 eV;薄膜呈n型导电特性,电阻率为2.551×10-2 Ω·cm,载流子浓度高达1.876×1019 cm-3,迁移率为13.04 cm2·V-1·s-1;薄膜中Ga元素主要与N元素以Ga-N键生成GaN.