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尹匀丰  汪辉 《半导体技术》2010,35(4):352-356,377
将空气引入Cu导线间形成空气隙,可有效降低等效介电常数K_(eff),但同时也使互连结构的机械稳定性面临着挑战。利用ANSYS进行了有限元热分析,研究了制备空气隙Cu互连结构的两种主流工艺过程,即CVD沉积法和热分解牺牲层法,模拟了Cu导线上的热应力变化趋势,并比较了两者的优劣,最终发现互连结构经过一系列热应力的循环作用后,各种材料在不同程度上都有较大的形变,这将影响结构的机械稳定性,甚至引起破坏。所以,需要进一步改善结构设计和使用理想电介质。  相似文献   
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