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1.
基于扩展分形和CFAR特征融合的SAR图像目标识别   总被引:3,自引:0,他引:3  
研究了多信息融合技术在SAR图像目标识别中的应用。将扩展分形特征(Extended Fractal)与双参数恒虚警特征(Double Parameter CFAR)形成的多信息进行融合处理。运用Dempster-Shafer证据理论,在决策层对SAR图像中的像素进行识别分类。实验结果表明通过融合对像素分类的准确性明显好于单特征的检测结果,减少了虚警概率,提高了系统的识别能力。  相似文献   
2.
基体温度对磁控溅射沉积ZAO薄膜性能的影响   总被引:8,自引:2,他引:6  
利用中频交流磁控溅射方法 ,采用氧化锌铝陶瓷靶材 [w(ZnO) =98%、w(Al2 O3 ) =2 % ]制备了ZAO(ZnO∶Al)薄膜 ,观察了基体温度对ZAO薄膜的晶体结构、电学和光学性能的影响 ,采用X射线衍射仪对薄膜的结构进行了分析 ,采用光学分度计和电阻测试仪测量了薄膜的光学、电学特性 ,采用霍尔测试仪测量了薄膜的载流子浓度和霍尔迁移率。结果表明 :沉积薄膜时的基体温度对薄膜的结构、结晶状况、可见光透射率以及导电性有较大的影响。当基体温度为 2 5 0℃ ,Ar分压为 0 8Pa时 ,薄膜的最低电阻率为 4 6× 10 -4Ω·cm ,方块电阻为 35Ω时 ,可见光 (λ =5 5 0nm)透射率高达 92 0 %。  相似文献   
3.
4.
本文利用脉冲直流反应磁控溅射的方法制备了五氧化二钽 (Ta2 O5)薄膜 ,俄歇电子能谱仪测试了薄膜的成分含量 ,椭偏仪测试了Ta2 O5薄膜的厚度和折射率 ,XRD分析了薄膜的晶体结构 ,并且分别研究了氧气含量、基底温度等成膜工艺对薄膜的影响。研究结果表明薄膜的成分主要是由氧气含量决定的。利用金属 绝缘体 (介质膜 ) 金属 (MIM)结构初步对Ta2 O5薄膜进行了电学性能的测试 :皮安电流电压源测试了薄膜的I U特性 ,制备出的薄膜折射率在 2 1~ 2 2 ,MIM的I U特性曲线显示了较好的对称性和低的漏电流密度  相似文献   
5.
本文从实用出发来研究半透明Ag-O-Cs阴极。重点叙述能使阈值液长延伸到1.3μm和积分灵敏度提高到60~80μA/lm的工艺改进方法,并作出物理解释;同时采取一种能使Ag-C-Cs阴极的热电子发射至少下降一个数量级的有效措施;扼要地描述工作电压对长波响应的影响并揭示外部电场对阴极红外响应的作用。  相似文献   
6.
张弓  朱兆达 《电子学报》2003,31(12):1824-1827
通过设立专门通道将图像处理技术应用于雷达检测域杂波功率数据处理,对特征杂波进行跟踪,为恒虚警处理提供背景信息.本文介绍了对抗杂波边缘的自适应CFAR检测器设计中的研究工作,设计了基于杂波跟踪的杂波属性CF(clutter feature)-CFAR检测器和结构元素SE(structuring element)-CFAR检测器,对其检测性能进行了分析.并通过蒙特卡罗(Monte Carlo)仿真方法对上述两种检测器的检测性能进行了仿真.  相似文献   
7.
提出了对可伐合金的引线及管基进行预氧化处理,然后在氮、氢混合气体保护下烧结半导体外壳的新方法,并利用正文实验的办法确定了最佳工艺条件。从而提高了外壳的气密性,降低了引线沿玻璃上爬的高度,为消除引线的延迟性断裂创造了条件。  相似文献   
8.
嵌入式软件系统因其软件相关性和硬件相关性而比常规软件的调试复杂很多,特别是在数据获取和故障定位方面最为突出。从嵌入式软件开发与常规软件开发的异同着手,以该行业实践积累为基础,列出并讨论了一些行之有效的数据获取及错误定位方法,希望能为该领域开发人员提供一点帮助。  相似文献   
9.
丁基胶内胎,具有气密性高、耐氧、耐热老化性能好等优点,深受用户欢迎。目前国内生产的丁基胶内胎都是黑色的,市场销路不畅。为了适应用户需要,从而提出了研制红色丁基胶内胎的新课题。 1981年徐州橡胶厂承担了徐州市科委下达的研制红色丁基胶内胎的任务,通过一年多的研究试制,在原有生产天然胶内胎的工艺设备基础上生产出红色丁基胶内胎,并于今年7月27  相似文献   
10.
塑料挤出机主辅电机联动系统设计   总被引:1,自引:0,他引:1  
本文在分析国内外挤出机生产线主辅电机同步联调特点的基础上,提出了一种实用的联调控制系统设计方案,控制系统设计采用纯硬件方式,可以广泛适用于国内未采用同步联调技术的挤出生产线,进行技术改造,对原有设备改动极小,具有很高的性能/价格比。  相似文献   
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