铝薄膜CMP影响因素分析

提出了在碱性抛光液中铝薄膜化学机械抛光的机理模型,对抛光液的pH值、磨料、氧化剂浓度对过程参数的影响做了一些试验分析。试验结果表面粗糙度的铝薄膜所需的最优化CMP过程参数:硅溶胶粒径为15～20nm,pH值为10.8～11.2,氧化剂浓度为2.5%～3%。     

攀钢高炉入炉原料优化处理控制技术

近年来,由于国内外优质的矿石和炼焦煤资源日益紧张,为保证高炉稳定顺行,攀钢在冶炼钒钛磁铁矿技术的认识上有了新的技术理念,树立高炉"均衡稳定"生产为目标。为此,在入炉原料的"精料"工作上进行技术攻关,采用合理的炉料结构,优化入炉原料的处理控制技术,提高鼓风动能的同时,合理进行"上下部调剂"等有效的技术措施。2008年至2009年9月在综合入炉品位仅为50.39%的条件下,高炉的利用系数均达到了2.319t/m3.d,焦比降到468 kg/tp煤比达到116.22 kg/tp,烧结矿的入炉粉末降到了1.53%。     

2000m~3高炉冶炼钒钛磁铁矿装料制度探讨

本文对攀钢2000 m3大高炉经历的装料制度进行了阐述,对国内大高炉的装料制度进行了一些调研,提出了下一步装料制度的研究方向,对大高炉冶炼钒钛磁铁矿实现低耗、高产具有十分重要的意义和作用。     

微电子工艺中硅衬底的清洗技术

通过研究硅片表面颗粒的吸附原理,提出了优先吸附模型,并提出改进SC-1的配方,不仅能去除颗粒,而且能有效去除有机物。介绍一些操作方法更加简单、去除更加彻底以及更加环保的清洗新技术。通过分析微电子技术的发展要求,指出今后硅片清洗工艺的发展趋势。     

攀钢高炉炉前综合技术开发与应用研究

介绍了攀钢冶炼钒钛磁铁矿大型高炉近10年,针对炉前用耐火材料等相关技术设施与高炉冶炼强度的提高存在匹配上的缺陷,制约了高炉技术指标的优化。对此,进行了实验室研究探索与工业试验相结合,对有水炮泥进行性能改进的同时,并成功地开发出了适用单铁口和双铁口使用的环保型无水炮泥,高性能有水炮泥,垫沟料,主沟浇注料等新型炉前用料。同时引进国内较先进的炉前设备和设施,改进铁口和主沟、砂窝子等相关设施的维护处理技术,满足了近几年来高炉强化冶炼条件下对炉前工作的适应性要求,促进了高炉技术经济指标进一步优化提高。