涂胶设备背面冲洗功能的开发与研制

本文根据涂胶设备在加工制品过程中所遇到的制品背面沾污问题，提出改进措施，并根据设备的具体情况，增加了涂胶设备的背面冲洗功能。使制品在涂胶过程中，及时地对制品背面进行冲洗，从而保证了制品背面的洁净度，对提高产品质量和提高产品的成品率有非常重要的意义，同时对开发一些技术要求较高的新品也有深远的影响。     

HF气相刻蚀技术及其在MEMS加速度计中的应用

本文介绍了一种用于微结构干法释放的HF气相刻蚀技术。通过调节工艺参数(包括腔体压力,HF流量,乙醇流量,氮气流量)研究其对二氧化硅刻蚀速率和均匀性的影响,得到刻蚀速率在500魡/min左右,均匀性5%左右的工艺菜单。该技术运用于MEMS加速度计中,成功实现了梳齿结构和质量块的无粘连释放。     

如何有效提高光刻掩模版的使用寿命

本文从接触式光刻技术的角度出发，对引起光刻掩模版局部损坏的可能原因进行分析，并根据遇到的具体情况，提出改进方法，开发新的生产工艺技术，使接触式光刻机掩模版的寿命有了很大的提高，对提高产品的成品率和降低生产成本也有非常重要的意义。