浸没式光刻技术的研究进展

浸没式光刻技术是将某种液体充满投影物镜最后一个透镜的下表面与硅片之间来增加系统的数值孔径,可以将193nm光刻延伸到45nm节点以下。阐述了浸没式光刻技术的原理,讨论了液体浸没带来的问题,最后介绍了浸没式光刻机的研发进展。     

一种新的光刻机像质参数热漂移检测技术

提出了一种新的光刻机像质参数热漂移原位检测技术（TDFM）。详细分析了该技术利用镜像测试标记检测投影物镜最佳焦面热漂移与放大倍率热漂移的基本原理。实验结果表明TDFM技术可同时实现最佳焦面热漂移（FFT）与放大倍率热漂移（MFT）的精确测量。与现有的放大倍率热漂移检测技术相比，该技术有效地解决了放大倍率热漂移技术中放大倍率热漂移受最佳焦面热漂移影响的问题，简化了光刻机像质参数前馈校正的测试过程，测试成本与耗时均减少50％。     

基于光学对准的光刻机投影物镜密集线焦深原位检测技术

提出了一种检测光刻机投影物镜密集线焦深(DOF)的新技术。该技术将具有精细结构的测量标记曝光在硅片上,硅片显影后,由光学对准系统获取曝光在硅片上的测量标记图形的对准位置信息,根据对准位置信息计算得到视场中各点的焦深。与传统的FEM焦深测试技术相比,该技术具有测量精度高、速度快、成本低、操作简单等优点,在光刻工艺参数优化及光刻设备性能评价等方面有很好的应用前景。     

一种检测光刻机激光干涉仪测量系统非正交性的新方法

提出一种精确检测光刻机激光干涉仪测量系统非正交性的新方法.将对准标记曝光到硅片表面并进行显影;利用光学对准系统测量曝光到硅片上的对准标记理论曝光位置与实际读取位置的偏差;由推导的位置偏差与非正交因子、坐标轴尺度比例、过程引入误差的线性模型,根据最小二乘原理计算出干涉仪测量系统的非正交性.实验结果表明,利用该方法使用同一硅片在不同旋转角下进行测量,干涉仪测量系统非正交因子的测量重复精度优于0.01μrad,坐标轴尺度比例的测量重复精度优于0.7×10-6.使用不同的硅片进行测量,非正交因子的测量再现性优于0.012μrad,坐标轴尺度比例的测量再现性优于0.6×10-6.     

光刻机投影物镜像差的现场测量技术

为了在光刻机工作过程中保证投影物镜的成像质量．人们开发了一系列投影物镜像差的现场测量技术。对目前国际上常用的几种高精度投影物镜像差现场测量技术进行了分析和比较。     

Tb（Ⅲ）双酞菁配合物有序薄膜的制备及荧光特性

铽是典型的具有较强荧光特性的稀土元素。本文以铽的双酞菁配合物八-4-（正壬氧基）酞菁铽（Ⅲ）为原料，以LB(Langmuir-Blodgett）单分子膜技术制备的酞菁铽多层LB膜，以及其与花生酸按不同比例（6:4、5:5和4:6）混合的多层LB膜。通过π-A曲线、原子力显微镜、紫外可见吸收光谱及荧光光谱等实验手段对它们的结构和荧光特性进行了表征。揭示了铽双酞菁配合物的结构特性及其在可见光范围内的荧光特性。     

ALC隔墙板施工要点及注意事项分析

ALC隔墙板安装施工技术具有施工工序少、效率高、成本低、环境污染少等优点，在高层建筑内墙板施工中得到了广泛的应用。以天津大学福州校区（三期）项目为例，从施工前和施工中两个方面对ALC隔墙板的应用要点进行了分析；并从搬运过程墙板的保护、施工过程质量的控制和施工质量的验收三方面介绍了ALC隔墙板施工的注意事项。     

以GCr15钢代用齿轮钢的强韧化工艺研究

GCr15钢能否用以制造齿轮,关键是其能否达到齿轮心部高韧性要求。本文试验研究了 GCr15钢在保持一定强度、硬度的情况下,力求提高韧性的强韧化工艺。试验结果表明,对 GCr15钢采用合理的强韧化工艺处理后,完全可以代替20Cr钢,20CrMnTi 铜和40Cr 钢制遗齿轮。     

基于人工神经网络权值优化的投影光刻机像质校正灵敏矩阵的计算方法

像质校正灵敏矩阵是像质校正算法中由像质参数计算像质校正参数的过渡矩阵。矩阵中的元素表征了像质参数随像质校正参数变化的灵敏程度。像质校正灵敏矩阵是投影光刻机像质校正算法中重要的参数集合。提出了一种投影光刻机像质校正灵敏矩阵的原位测量方法,该方法利用人工神经网络(ANN)对像质参数和像质校正参数之间的依赖关系进行建模,通过网络自学习能力优化网络的连接权值使其逐渐逼近像质校正灵敏矩阵的数值,从而实现像质校正灵敏矩阵的测量。实验结果表明该方法可以高精度、有效地获得投影光刻机像质校正灵敏矩阵。     

一种新的光刻机多成像质量参数的原位检测技术

随着光刻特征尺寸的不断减小,尤其是随着分辨力增强技术的使用,像质参数的原位检测已成为先进的投影光刻机中不可或缺的功能。然而现有的每种技术均只能检测有限的几种像质参数。提出了一种新的基于像传感器的光刻机多成像质量参数原位检测(MIQM)技术。该技术通过对原有的测量模型进行修正和扩展,从而在精确测量低阶成像质量参数的同时能高精度地测量高阶成像质量参数。此外,该技术是基于空间像测量的像质参数原位检测技术,从而具有速度快、稳定性好等优点。通过该技术的低阶像质参数测量精度与原有技术相近,而高阶像质参数测量重复精度优于1 nm。实验结果表明该技术能一次完成步进扫描投影光刻机的多个像质参数的精确测量,从而简化了光刻机像质检测过程,大量节约了测量时间,有效避免了像质参数之间的互相影响。