高靶材利用率的新型磁控溅射器

在现代大型薄膜连续生产线中 ,其生产效率主要受以下两因数的影响 :溅射器的沉积速率和靶材的使用周期。本实验研制了一种圆筒形靶材绕溅射器中心轴线匀速旋转 ,并且与溅射器之间用螺丝固定连接的新型磁控溅射器。论述了新型溅射器的结构与组成 ,并给出实验结果与结论。其具有靶材利用率高、使用周期长、换靶时间短等优点。同时在反应溅射时避免在靶面上的形成介质层 ,提高了溅射过程的稳定性。     

无马达驱动的旋转圆柱形磁控溅射器

在大型薄膜连续生产线中,磁控溅射器的溅射速率、使用周期是影响生产效率与成本的重要因素。本提出一种新型的无马达驱动的具有高溅射速率、高靶材利用率、长的靶使用周期、安装与使用简单的磁控溅射器。可广泛应用于各类大、中型连续生产设备中。     

非晶碳化硅薄膜和非晶锗-碳薄膜的拉曼散射研究

测量了用高频溅射法生长的非晶碳化硅薄膜的室温拉曼谱.观察到在400—600cm~(-1)、700-1000cm~(-1)、1200—1600cm~(-1)处的三个宽拉曼散射峰,分别对应于Si-Si、Si-C、C-C键.并发现在不同电阻率的样品中三个峰的相对强度有明显的差别.同时测量了高频溅射法生长的非晶锗-碳薄膜的室温拉曼谱.与非晶碳化硅薄膜不同,没有观察到对应于Ge-C 键的拉曼散射峰.     

无马达驱动的旋转圆柱形磁控溅射器

在大型薄膜连续生产线中,磁控溅射器的溅射速率、使用周期是影响生产效率与成本的重要因素.本文提出一种新型的无马达驱动的具有高溅射速率、高靶材利用率、长的靶使用周期、安装与使用简单的磁控溅射器.可广泛应用于各类大、中型连续生产设备中.     

真空和射频溅射对ITO膜性能的影响

为进一步探求磁控溅射的机理,本文通过用直流和射频两种磁控溅射沉积ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）膜的方法,由沉积的ＴＩＯ膜的特性来揭示不同溅射的机制。     

高靶材利用率的新型磁控溅射器

在现代大型薄膜连续生产线中,其生产效率主要受以下两因数的影响;溅射器的速率和靶材的使用周期,本实验研制了一种圆筒形靶材绕溅射器中心轴线匀速旋转,并且与溅射器之间用螺丝固定连接的新磁控溅射器。论述了新型溅射器的结构与组成,并给实验结果与结论。其具有靶材利用率高,使用周期长,换靶时间短等优点。同时在反应溅射时避免在靶面上的形成介质层,提高了溅射过程的稳定性。