织构单晶硅表面上银纳米颗粒的制备及其反射性质研究

为减少光反射损失,通过热蒸发在织构单晶硅(经含有碱液和添加剂的特殊溶液80℃腐蚀30 min而成)表面上沉积了一定厚度的银膜后经一定温度(0～500℃)退火形成银纳米颗粒.SEM下观察到,银纳米颗粒的大小和形状与退火温度有很大关系.银纳米颗粒表现出的等离激元性质对反射谱有影响.实验分析得到,Ag沉积质量是0.003 8...     

提高硅纳米墙光电器件背部欧姆接触的超声修饰方法

提供了一种硅纳米墙结构器件的背面电极接触改善方法。通过利用超声的方法修饰金属催化法制备的硅纳米墙结构,并制备了AZO／硅纳米墙异质结光电器件。研究发现超声波可以对金属催化法制备的纳米硅墙进行单面修饰,与未经超声修饰的样品制备的器件相比,超声修饰能够改善硅纳米墙器件的背面电极欧姆接触,2 min的超声修饰可以将器件的串联电阻从587 Ω下降到082 Ω,填充因子提高86％,光电转换效率提高762％,提高了光电器件的载流子收集效率。     

沉积压强对非晶硅薄膜光学性能和微结构的影响

为研究沉积压强对非晶硅薄膜光学性能和结构的影响,通过改变沉积压强并采用射频磁控溅射制备a-Si∶H薄膜.借助椭偏仪、紫外可见分光光度计和拉曼光谱来分析薄膜的光学性能和微结构.研究发现,在较低沉积压强下薄膜的致密度得到提高,光学带隙偏小,折射率和消光系数较大,短程序和中程序得到改善,体内缺陷较少.并且椭偏拟合参数A越大,...