首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   4篇
  免费   1篇
无线电   5篇
  2023年   1篇
  1999年   2篇
  1991年   1篇
  1988年   1篇
排序方式: 共有5条查询结果,搜索用时 46 毫秒
1
1.
俄罗斯雷达技术的发展动态和启示   总被引:3,自引:0,他引:3  
沈晓华  樊元东 《半导体情报》1999,36(4):35-36,40
综述俄罗斯雷达技术发展的新动态及WN级米波雷达的反隐身能力和反反辐射导弹能力。重点讨论了WN级雷达的模块化设计思路及其所带来的启示。  相似文献   
2.
综述俄罗斯雷达技术发展的新动态及 W N 级米波雷达的反隐身能力和反反辐射导弹能力。重点讨论了 W N 级雷达的模块化设计思路及其所带来的启示。  相似文献   
3.
本文给出了GaAs双栅场效应晶体管的高频等效电路模型以及输入/输出阻抗、跨导,单向增益、稳定因子等的解析表达式。在低频时,双栅场效应晶体管的增益高于单栅场效应晶体管,但是由于第二栅的电容分流效应,随着频率的增加双栅场效应晶体管的增益急速下降。我们研制了可用于K波段可变增益放大器中的双栅功率场效应晶体管,该器件总栅宽为1.2mm,在10GHz下,输出功率为1.1W,增益为10.5dB,附加功率效率为31%。同样栅宽的器件。在20GHz下,输出功率为340mW,增益为5.3dB。在K波段,动态增益控制范围可达45dB,在最初的增益控制变化10dB范围内,其插入相位变化不超过±2°。  相似文献   
4.
分析了金刚石线锯多线切割150 mm SiC晶片的表面形貌及质量,通过测试SiC片Si面和C面的表面粗糙度(Ra),发现C面Ra值约为Si面的2倍。在切割过程中晶片向Si面弯曲,使锯丝侧向磨粒对Si面磨削修整作用更强,从而使晶片Si面更加光滑。此外,通过显微截面法测试了SiC晶片两面的损伤层深度。结果表明,Si面损伤层深度约为7.89 μm,明显低于C面的13.8 μm,显微镜下观察到截面边缘更加平整。该方法进一步证明了多线切割时晶片向Si面弯曲,使锯丝侧向磨粒对Si面的磨削效果更强,从而造成SiC晶片两面表面形貌和质量存在差异。  相似文献   
5.
1
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号