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1.
本文简要介绍了灵敏面直径分别为20,12mm,中心孔为4mm的环形探测器的制造工艺和基本性能。并给出了扫描电子显微镜和扫描电子束爆光机中,采用环形探测器检测背散射电子的实验数据、曲线及扫描图象。  相似文献   
2.
在电子束曝光系统中,背散射电子检测器是重要部件之一。本文简要地介绍了该装置的工作原理、功能及检测系统概况,并给出了多种应用举例。  相似文献   
3.
本文介绍了DY-5型微米电子束曝光机的主要技术性能;最细特征线宽0.4μm,图形位置精度及拼接精度优于±0.15μm;扫描场尺寸1×1mm^2和2×2mm^2;最高扫描速度1MHz,可加工100×100mm^2掩模版或Х75硅圆片,给出了部分曝光试验结果。  相似文献   
4.
5.
本文将重点介绍DY-5型电子束曝光机的偏转系统的构成、特点及结果。  相似文献   
6.
电子束曝光系统中采用了多项校正技术,才得以使之渐致完善,成为微细加工领域中一种非常重要的工艺设备。本文根要地介绍了这些校正技术的原理、适用范围以及校正方法的要点。  相似文献   
7.
本文概要地比较了扫描电镜和电子束曝光机二者电子光学柱的异同。介绍了把一台AMRAY系列电镜的电子光柱改造成DY-5型电子束暴光机电子光学柱所做的工作,最后给 一组试验结果。  相似文献   
8.
在电子束曝光机中,工件传动台、电磁偏转场及标记三者相对应的座标轴是否重合,是影响图形拼接精度的重要因素之一。本文概要地介绍了调校三座标系相互重合的方法,并给出了DY-5型亚微米电子束曝光机调校结果。  相似文献   
9.
在电子束曝光机中,工件传动台、电磁偏转场及标记三者相对应的座标轴是否重合,是影响图形拼接精度的重要因素之一。本文概要地介绍了调校三座标系相互重合的方法,并给出了DY-5型亚微米电子束曝光机调校结果。  相似文献   
10.
本文介绍了DY-5型亚微米电子束曝光机的主要技术性能:最细特征线宽0.4μm;图形位置精度及拼接精度优于±0.15μm;扫描场尺寸1×1mm2和2×2mm2;最高扫描速度1MHz;可加工100×100mm2掩模版或Φ75硅圆片。给出了部分曝光试验结果。  相似文献   
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