双弧光源照明器在铬版机中的应用

铬版机制版过程中,一个至关重要的因素是照明条件。本文重点介绍采用了光学传光束的双弧光源照明器。它已用于铭版机,在10mm×10mm的成像面积内,获得了较高的照明均匀性(不均匀性<±3%)和大于35OmW/cm~2的曝光能量,亦能用于Stepper。此外,还具有加工方便、调整简单、成本低、体积不大等优点,是一个较为实用的光学照明曝光系统。     

0.35μm分辨率的远紫外投影光刻物镜

介绍一种２４８ｎｍ谱线投影光刻物镜光学设计结果,提出制造该镜头应解决的一些技术问题。     

0.35μm分辨率的无紫外投影光刻物镜

介绍了一种２４８ｎｍ谱线投影光刻物镜光学设计结果,提出制造该镜头应解决的些技术问题。     

一种可实用的照明曝光系统

以作者多年的工作体会为基础熏结合几种照明曝光系统的情况熏介绍了提高光刻机的照明均匀性和单位面积能量的一些具体措施。并以光学均匀器为例熏做出一种可实用的照明曝光系统。     

简讯四则

<正> 美国GCA公司在中国成立技术服务中心 1987年10月30日至31日,中国电子进出口总公司(CEIEC)与美国GCA公司在北京联合召开CEIEC—GCA技术服务中心成立大会。参加大会的有GCA公司的中国用户和有关单位来宾共150多人,美国驻华使馆的技术参赞及GCA公司总裁、副总裁等一行人也出席了会议。电子工业部有关领导到会祝贺并为其剪了彩。会间,GCA公司总裁表示,该公司与中国电子工业界的合作将分三步进行:(1)成立技术服务中心;(2)向中国出售DSW系统的整机与散件;(3)向中国转让高技术,全面开展与中国的技术合作。电子部已委托微电子局与GCA公司就上述问题进行了洽谈。     

用于超大规模集成电路的微缩物镜设计

电子工业的迅速发展对微缩镜头的设计和制造起了推动作用,尤其七十年代后期开始的超大规模集成电路,对精缩镜头的视场、分辨率和畸变等则提出了更高的要求。本文就精缩镜头的发展趋势、光学设计结果应该满足的各种要求、评价精缩镜头光学设计结果和镜头质量优劣的依据、设计选型时的指导思想进行了论述;还介绍了一种新的估计精缩镜头焦深的方法;并结合一个具体结构型式阐述了采用不同基准光(e线和g线)的两种适用于超大规模集成电路(线视场为φ14.5mm)的高分辩率-1/10X精缩镜头的设计思想、设计过程和结果;并利用OTF的计算去估计将一个已知的某种谱线(如e线)镜头结构型式改做成另一种谱线(如g线)镜头时所能达到的分辨率等指标。     

5倍高分辨率投影光刻物镜设计

本文结合Wafer Stepper简要说明投影光刻物镜的指标判断和要求,设计时应考虑的某些问题,并介绍一个5倍g线高分辨率投影光刻物镜的设计结果,该物镜的象素数N为2.3×10~8。