LaB_6/GaAs肖特基势垒研究

用电子束蒸发LaB_6单晶的方法,制备了LaB_6/GsAs肖特基势垒,经800℃高温退火后,势垒高度为0.70eV,理想因子为1.15～1.2。用俄歇能谱观察到LaB_6/GaAs界面有良好的热稳定性,以LaB_6为栅得到了初步的全离子注入的MESFET特性。结果表明,LaB_6有希望用于GaAs集成电路。     

“P~+-N结正向势垒电容异常变化”变容管模型的最佳化

用计算机辅助设计,给出P~+-N结正向势垒电容异常变化的变容管模型的最佳值解。据此研制的参放变容管性能为:γ[0.5V,-4V]=0.20～0.27,M=110～160。使用该器件的4GHz常温参放,噪声温度低达35K。     

Ka频段GaAs单片平衡混频器

报道Ｋａ频段ＧａＡｓ单片平衡混频器的设计和研究结果。用自行开发的“ＴＵＭＭＩＸＥＲ”软件进行电路设计，工艺以半绝缘ＧａＡｓ为衬底，采用ＮｂＭｏ／ＧａＡｓ接触形成肖特基势垒二极管，以ＳｉＯ２和聚酰亚胺双介质为保护膜，增强了工艺的成功率。研制成功的芯片尺寸为：２ｍｍ×３ｍｍ×０．２ｍｍ，在ｆ＝３１～３６ＧＨＺ范围内ＮＦＳＳＢ≤１０ｄＢ，最佳点ｆ＝３２．２ＧＨｚＮＦ．ＳＳＢ＝８．７ｄＢ［ｆＩＦ＝１．２ＧＨｚ］。     

GaAs梁式引线混频管四管堆

本文报道GaAs梁式引线混频管四管堆的研究结果.以半绝缘GaAs单晶为衬底,以NbMo/GaAs接触形成肖特基势垒,用二氧化硅和聚酰亚胺两种介质为钝化保护膜而制成的梁式引线混额管四管堆,其零偏结电容为0.05～0.11pF,串联电阻为3～6Ω,分布电容小于0.10pF,4个单管的一致性较好.将该器件分别用于7.5～18GHz和4～8GHz双平衡混频器中,单边带整机噪声系数分别小于6.6dB和5.0dB(不含中放噪声系数1.5dB),本振功率小于10dBm.     

正向势垒电容的异常变化及其在参放变容管中的应用

在对P~+-N结正向电容进行全面分析的基础上,本文提出了一种使P~+-N结正向势垒电容异常变化的掺杂分布模型,它的特点是:结电容在正向偏压下有比普通突变结快得多的变化速度和较大的变化幅度.把该模型应用于结电容为 0.08—0.25 pF的 GaAs参放变容管,结果表明,它提高了变容管的电容变化系数,并具有较高的零偏压截止频率,而且还降低了参放所需的泵功率.得到的样管参数为:零偏压截止频率400—700千兆赫、电容变化系数0.17-0.225,参放工作所需的泵功率仅10-20毫瓦.     

Ka频段GaAs单片平衡混频器

Ｋａ频段ＧａＡｓ单片平衡混频器江关辉，孙柏根，高葆薪，孙迎新，戴沛然（南京电子器件研究所，２１００１６）（清华大学电子工程系，北京，１０００８４）Ｋａ－ＢａｎｄＭｏｎｏｌｉｔｈｉｃＧａＡｓＢａｌａｎｃｅｄＭｉｘｅｒ￥ＪｉａｎｇＧｕａｎｈｕｉ；ＳｕｎＢ...     

自对准LaB_6栅全离子注入GaAs IC工艺实验研究

<正> 近年来,自对准耐高温栅工艺(SAG)已成为国际上研究GaAs VHSIC的主要工艺途径之一。这是因为该工艺流程短,成品率高。但它需要选择制作肖特基势垒栅的材料,以在高温800℃)退火后势垒特性基本不退化。已报导过的难熔材料有TiW,TiWSi,WAl,WN,WSi等。自1985年第17届SSDM上报导了一种LaB_6/GaAs势垒的耐高温特性之后,LaB_6成为自对准耐高温栅GaAs工艺的一种新的有希望的材料。为配合开展势垒特性研究的结果用于将来的器件工艺,进行了以下专题实验:1)制LaB_6栅工艺与增强型MESFET的薄有源层相容性研究;2)LaB_6栅与离子注入层同时高温退火的工艺研究;3)自对准LaB_6栅离子注入形成高浓度(N~+)接触区的结构研究;4)双层布线中简化互连工艺的研究。