Sputtering of ZnO buffer layer on Si for GaN blue light emitting materials

The preparation of high quality ZnO/Si substrates for the growth of GaN blue light emitting materials is considered. ZnO thin films have been deposited on Si (100) and Si (111) substrates by conventional magnetron sputtering. Morphology, crystallinity and c-axis preferred orientation of ZnO thin films have been investigated by transmitting electron microscopy (TEM), X-ray diffraction (XRD) and X-ray rocking curve (XRC). It is proved that the ZnO thin films have perfect structure. The full-width-at-half-maximum (FWHM) of the ZnO(002) XRC of these films is about 1°, while the minimum is 0.353°. This result is better than the minimum FWHM (about 2°) reported by other research groups. Moreover, comparison and discussion are given on film structure of ZnO/Si(100) and ZnO/Si(111).     

软X射线多层膜界面粗糙度的计算

提出一个在小角范围内计算多层膜界面粗糙度的理论计算公式 ,通过不同样品的小角度衍射曲线进行计算 ,结果表明由该公式根据不同周期、不同级次衍射峰计算的粗糙度相差比较小 ,而在相同条件下用已报道公式给出结果相差比较大。该理论公式获得的计算结果与实际观测结果比较一致。     

热处理对V2O5薄膜的结构及光学性能的影响

用射频平面磁控溅射法在Ar/O2气氛中溅射V2O5粉末靶制得V2O5薄膜,然后在大气中对样品薄膜作250℃～400℃的热处理试验.用XRD分析表明薄膜随着热处理温度的升高,除了晶粒尺寸不断长大以外,薄膜的组分也在发生不断的变化,在低温下处理时出现的某些结构在高温处理后消失,同样在高温下处理后也出现了一些低温下没有出现的新结构.这种结构变化导致在300℃以下的温度处理后的薄膜在可见光和近红外波段都有异常大的吸收;在350℃以上的温度处理后的薄膜在可见光和近红外波段的吸收显著地减小.     

制备超薄多层膜的自动转速控厚法

在转速控厚法的基础上 ,排除了射频溅射的电磁干扰 ,实现了自动转速控厚法。用这种方法镀制超薄多层膜时 ,可以实时记录下镀制每层膜的沉积时间、自动切换转速、完成设定周期后自动停止转动。自动转速控厚法与转速控厚法相比 ,明显降低了多层膜制备的劳动强度 ,提高了多层膜制备的成品率和监控精度。而且将在镀制复杂膜系多层膜时 ,具有更加明显的优势     

小周期多层膜的小角X射线衍射强度研究

水窗波段X射线反射元件的特征是周期比较小,吸收层和间隔层很难形成连续的膜面.提出了这种膜系内密度变化的简单物理模型,通过理论衍射强度计算和小角X衍射实验证明这种模型是合理的.同时理论上证明这种模型仍然有较强的小角X射线一级反射强度,其强度相当于结构参数相同的理想尖锐界面多层膜一级反射强度的70%～80%.对于小周期的多层膜设计,具有一定的参考价值.     

ZrO2/SiO2棱镜偏振膜的膜系优化设计与制备

对以K9玻璃为基底,采用ZrO2和SiO2为高低膜料来制备棱镜偏振膜,并进行膜系优化设计.设计指标为:波长540nm处满足Tp>99%,Ts13H3LH为最佳膜系.测试结果表明,此膜系完全满足设计指标,偏振性能优良.探讨了参考波长对偏振膜工作带宽的影响.     

多媒体背投系统中的光学薄膜

背投技术是当今显示领域内的新秀 ,主要介绍了用于多媒体投影系统所需要的各类光学薄膜的作用、参数和光学性能 ,同时针对该领域内国内外最新研究状况进行了调研 ,给出了现在所面临的关键技术难题并对其发展前景做了预测。     

高折射率材料吸收特性对193 nm HfO2/SiO2,Y2O3/SiO2,Al2O3/SiO2多层膜反射特性的影响

由单层HfO2，SiO2，Y2O3，Al2O3膜求出其折射率和消光系数色散曲线，据此计算出HfO2／SiO2，Y2O3／SiO2，Al2O3／SiO2的193nm多层膜反射膜曲线，并用电子束热蒸发的方法进行镀制。由分光光度计测量样品的透射率和绝对反射率，求出了各种膜层的吸收曲线。结果发现HfO2／SiO2，Al2O3／SiO2反射率实验结果与理论结果吻合得很好，而Y2O3／SiO2的理论曲线偏高。通过模拟Y2O3／SiO2的反射率曲线发现Y2O3的消光系数远大于由单层膜实验得出的结果。这说明Y2O3膜层的吸收特性与薄膜的制备工艺密切相关。     

V2O5薄膜用作SO2气敏传感器

在O2/Ar气氛中，用射频磁控溅射法在常温下溅射V2O5粉末靶得到氧化钒薄膜。在350℃热处理后，经XRD分析，薄膜的主要成分为V2O5。在不同温度下对V2O5薄膜作了对“空气和SO2”的混合气氛的敏感特性测试分析，发现在300～390℃范围内，薄膜对SO2气体灵敏随温度的升高而增大，在超过390℃后，灵敏度随温度升高而降低。在SO2气体去除后，薄膜的电阻值能恢复到初始状态，气敏过程可反复进行。文章对V2O3薄膜的气敏机理作了定性描述。     

大尺寸宽带偏振薄膜的制备与测试

用计算机辅助设计,依靠膜系自身匹配原则,压缩通带波纹,以此提高偏振膜的带宽和稳定性;同时对偏振膜的材料选择、膜系设计以及实际测量进行了研究,并在此基础上设计并制备出以HfO2/SiO2为镀膜材料,使用角度为60°,工作波长为1053nm的多层薄膜偏振片,该偏振片具有良好的光学性能和比较高的抗激光损伤阈值。