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本文叙述了用匀胶铬版制作光刻掩模代替超微粒干版制作光刻掩模的工艺过程，文中就图象发生器直接曝光匀胶铬及图象的黑白反转工艺作了较为详尽的介绍，对集成电路的光 刻技术有一定参考作用。 相似文献
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本文叙述了光刻掩模的缺陷对IC成品率的影响，着重介绍了缺陷产生的原因及消除的方法，并对国内外光刻掩模生产现状作简要介绍。 相似文献
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本文着重介绍了超大规模集成电路生产工艺中的关键工艺掩模及光刻技术的国际国内概况，比较详细地叙述了1：1投影光刻技术和1：1与5：1Stepper掩模及光刻技术，并且介绍了为使光刻质量的提高，采用掩模保护膜技术的原理，对我国集成电路制造工艺的提高具有一定的参考作用。 相似文献
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