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本文在成熟使用电子束曝光机制作各处掩膜版的基础上,针对主人掩膜版质量的三大因素即:图形尺寸精度,图形套准精度,芯片合格率逐一详细分析,以研究探讨如何应用电子束曝光机制作高质量的掩膜版。 相似文献
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影响电子束曝光机加工微细化的因素 总被引:1,自引:0,他引:1
结合实际工作,分析、探讨了影响电子束曝光机加工微细化的因素。这些因素主要有:抗蚀剂材料、电子束本身、电子束曝光机控制线路、器件结构和电子束工艺等。在诸影响因素中,工艺的影响是目前一个较大且较主要的影响因素,其次是背散射电子束的影响,对后者,我们采用辅助曝光方法加以改善,效果良好。但对工艺等的影响因素的改善尚待继续研究、摸索。 相似文献
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本文通过对一台先进电子束曝光机制作掩模过程的分析,阐明设计图经计算机辅助设计系统数字化后,生成PG格式数据,再由PG格式数据转换成电子束格式数据的处理;论述了光栅扫描的原理及特点;介绍了图形发生器的作用及电子束在控制系统作用下在基片上描绘图形的过程。 相似文献
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