靶面化合物覆盖度的计算方法研究

由溅射速率方程和反应粒子输运方程得出了靶面化合物的覆盖度。所有方程都用反应室结构参数和宏观参数表示，文中还给出了溅射沉积TiN薄膜的计算结果，结果表明与实验数相吻合，所建立的方法便于工艺优化的实施，属新的工程方法。     

常压CVD淀积非晶硅薄膜的研究

本文应用常压CVD法制备出了α-Si薄膜,它是非晶硅太阳能电池的良好材料。采用X射线衍射、扫描电镜、红外透射谱和X射线光电子能谱对α-Si薄膜的结构和性能进行了研究,并给出了α-Si薄膜的淀积理论模型。     

冷等离子体提纯硅的速率模型分析

应用反应动力学方法建立基元反应速率方程并按工艺条件进行耦合,得出了以宏观工艺参数表达的提纯速率方程,这种方程便于计算,能指导工艺优化并容易为工程师应用,计算结果与实验数据能较好的吻合。     

硅粉在带振动阴极反应室中的刻蚀

文中提供了带倾斜角振动171极的等离子体反应室及他用于刻蚀硅粉的实验结果。振动171极上硅粉的运动分析表明其在反应区滞留的时间可达数分钟之久，这就使低纯硅粉的纯化处理可一次完成。刻蚀速率模型几个关键公式的计算结果表明中性高能粒子的刻蚀效果不可忽视。理论分析与实验数据大致吻合，这证明新的反应室用于粉粒表面刻蚀和纯化都大大优于立式反应室。     

冷等离子体中的粉体研究

介绍了在冷等离子体中粉体研究的几个重要成果，分析了粉体在两种反应室结构中的运动、沉降时间及刻蚀状况。理论分析和实验结果表明带振动阴极的反应室在粉体表面刻蚀方面比传统阴极结构的反应室要优越得多。研究表明冷等离子体对硅粉纯化具有应用前景。     

凤型酒与酒海

我国传统的白酒贮酒容器大多用陶瓷缸。而以西凤酒为代表的凤型酒则自古以来用酒海贮存。酒海常用柳条编制,以麻纸裱糊,猪血、石灰为涂料,裱糊层数多达上百层,确保长期贮存不漏酒。烘干后,再用鸡蛋清、熟菜籽油和蜂蜡作表面处理。酒海具有可就地取材、制作方法简单、价廉、贮量大和贮酒损耗少等优点。以下对酒海和陶瓷缸贮酒作一对比分析研究。一贮酒容器对酒质的影响     

生香活性干酵母在凤型白酒和浓香型白酒生产中的试验研究

大发酵时添加生香活性干酵母其总酯和各种酯的含量均有不同程度的增长，对提高酒质有积极作用。     

粉尘等离子体的研究

在实验和理论上研究了粉粒在等离子体鞘区的沉降、带电、收集和刻蚀。基于粉尘对等离子区电子能量分布函数的影响,讨论了粉尘对等离子体的干扰。有关结果表明等离子体对硅粉的纯化处理有可能应用于将工业硅直接制成太阳级硅。     

从粒子输运研究靶的溅射与中毒

从粒子的产生、输运及表面反应出发,建立总的输运模型并得到靶的溅射速率和化合物的复盖度。模型中都是以宏观工艺参数及反应室结构参数表达的,对薄膜材料的溅射淀积技术具有重要的应用价值。