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1.
简要介绍了白俄罗斯产ЭМ-5009Б激光图形发生器的结构原理;结合实例说明一般维修方法的实现过程。  相似文献   
2.
用于T形栅光刻的新型移相掩模技术   总被引:2,自引:0,他引:2  
根据移相掩模基本原理,通过光刻工艺模拟提出了一种适于T形栅光刻的新型移相掩模技术——M-PEL。初步实验证明,M-PEL技术可在单层厚胶上经一次光刻形成理想的T形栅抗蚀剂形貌。  相似文献   
3.
本文分析了二芳基硝酮、二芳基乙烯、二芳基偶氮化合物以及芳族重氮化合物的最大吸收波长(λmax)与环上取代基的Hammett σ系数之间的关系。发现λmax的红移量与Σ|σ|之间有强相关性。并提出一种经验估算法,用于判断某些反差增强材料的λmax。列出了若干估算实例,说明本方法有一定准确性和实用意义。  相似文献   
4.
5.
简要介绍了白俄罗斯产ЗМ-5509Б激光图形发生器的结构原理;结合实例说明了一般维修方法的实现过程。  相似文献   
6.
根据ЭМ-5009Б激光图形发生器的工件台运动方式, 介绍一种大幅度提高该设备曝光速率的方法  相似文献   
7.
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