LCOS显示芯片设计

详细地讨论了LCOS显示技术原理;介绍了LCOS芯片的设计、制造技术.     

多介质工艺X射线光刻制作T形栅

半导体器件日益向高频、高速方向发展 ,赝质结高电子迁移率晶体管以其高频、高速、低噪声受到人们重视而发展迅速。在PHEMT的制作工艺中 ,栅线条的制作是至关重要而又极为困难的。采用X射线多介质工艺制作T形栅 ,其形貌清晰 ,线条基本可控 ,为MMIC制作提供了可靠的工艺     

热打印头的失效机理与寿命分析

在对热印头进行高温存储实验、震动实验、脉冲加热实验和实际打印实验的基础上,总结出热印头失效的五种模式,并分析了各种模式的失效原因;论述了提高热印头寿命的措施。