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电解质等离子抛光表面粗糙度随时间变化规律 总被引:1,自引:0,他引:1
表面粗糙度是衡量抛光效果的最主要标准.依据电解质等离子抛光机理建立表面粗糙度随时间变化的数学模型,实验得出一定条件下经过不同的抛光时间之后试件表面的实际粗糙度值,用这些实验数据和数学模型进行非线性拟合,并根据拟合结果对数学模型进行了修正.修正后的数学模型与实验数据的拟合程度很好,校正可决系数达到了0.97139.在不同的抛光液温度下,又进行了2组实验,验证了修正后的数模模型与实际抛光时的情况基本一致. 相似文献
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By the use of ANSYS/LS-DYNA FEA software,numerical simulation on the cutting process of cutting plates with a reamer was carried out in the paper. The logical improvement was brought forward and the phenomenon of stress concentration was deceased by weighted analysis. The effects of different cut velocities and cutting thickness on life-spans of reamers were investigated, and the cutting parameters were optimized to satisfy the cutting precision and cutting efficiency. The study will provide a guide for the practical production. 相似文献
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设计了混粉工作液循环装置,它包括供,回油系统,工作液槽系统,贮油箱系统等,该装置能充分保证工作液在循环中粉末浓度的一致性,为进一步的试验研究提供了硬件设施。 相似文献
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