排序方式: 共有8条查询结果,搜索用时 15 毫秒
1
1.
现阶段Au丝作为内引线一直占着键合的主导地位,由于Cu丝具有优良的电性能和价格优势,随着键合技术的发展,以Cu丝代替Au丝作为键合用内引线已经成为必然,封装行业许多厂家正热衷于将原有的Au丝键合设备进行改造,但还存在这样那样的问题。以Au丝键合改为Cu丝键合的技术研究为出发点,首先介绍了键合技术的发展,然后通过工艺调整和设备改造,使得Cu丝作为内引线能够代替Au丝在该设备上使用,同时达到了节约生产成本,节约资金的目的。对改造过程中的气体流量、压力、功率、焊接时间等参数问题进行了详细地阐述,同时对芯片、键合劈刀等也做了相应调整,使得改造后的检测结果完全满足产品要求。大力推进以Cu丝替代Au丝键合技术,可节约生产成本,提高键合强度,增强导电率、导热率等,具有重要的经济技术效益,必将迎来封装业的又一次大变革。 相似文献
2.
3.
4.
5.
MES将生产过程与信息化有效结合,具有实时管控生产状况、快速查找分析问题、提升信息回应速度的三大应用特点,对于优化生产工艺、节约制造成本、缩短生产周期、提高产出效率等效果显著,得到了国家政策的大力支持和推广。 相似文献
6.
随着现代工艺水平的提高与新技术开发的多元化,功率VDMOSFE设计研制朝着高压、高频、大电流方向发展,成为目前新型电力电子器件研究的重点。本文按照功率VDMOSFE正向设计的思路,选取<100>晶向的衬底硅片,采用多晶硅栅自对准工艺,结合MEDICI器件仿真和SUPREM-4工艺仿真软件,实现击穿电压和导通电阻的优化,同时优化元胞结构与结终端结构,兼顾开关特性及其它参数,最终完成工艺产品试制,基本可达到500V/8A高压、大电流VDMOSFET的设计与研制要求。 相似文献
7.
按照功率VDMOSFET正向设计的思路,选取(100)晶向的衬底硅片,采用多晶硅栅自对准工艺,结合MEDICI器件仿真和SUPREM-4工艺仿真软件,提取参数结果,并最终完成工艺产品试制,达到了500 V/8 A高压、大电流VDMOSFET的设计与研制要求。结果证明,通过计算机模拟仿真,架起了理论分析与实际产品试制之间的桥梁。相对于原来小批量投片、反复试制的方法,不仅节约了时间,降低了研制成本,而且模拟结果与实际试制结果之间能够较好地吻合。针对传统结终端结构的弊端,提出了一种新型结终端结构,大大提高了产品的击穿电压和可靠性。 相似文献
8.
阐述了碳化硅(SiC)材料的优异特性,并在此基础上,针对目前处于商业化热点的SiC整流器件,进行了重点介绍,分析了国内外发展现状,并对未来发展趋势做出展望。 相似文献
1