用于光刻系统仿真的多边形处理算法

为提高光刻仿真效率,通过对光刻原理进行研究,提出了2种多边形处理算法,将掩模上的多边形图案进行切分优化,将其划分成若干矩形或三角形。在Linux环境下应用C语言设计出一个完整的光刻仿真系统,设计的具体光学参数为:光源波长为193nm,数值孔径为0.3~0.8,部分相干系数可调范围为0.2~0.8,可一次性仿真1μm×1μm到10μm×10μm范围内的45 nm~0.18μm工艺的复杂版图,并通过多次实验进行验证。实验结果表明:原版图图像的边缘细节得到保留,且该算法有效地减少了光刻模拟的计算复杂度与计算时间,整体效率提升20%以上,为当前智能传感器系统芯片的制造节省了宝贵时间。     

一种用于降低版图复杂度的新的反向光刻算法

随着光刻系统被驱动用来生产65nm以下的器件时,反向光刻技术（ILT）的应用前景变得越来越广阔。不过,采用反向光刻技术得到的版图通常很难制造,限制了反向光刻技术的使用领域。在这篇文章里提出了一个新的复杂度惩罚项,文章里面称为全局小波惩罚项。通过在版图上进行了四个独特的小波变换,之后选择了一个版图高频成分含量最高的方向作为优化的小波变换方向,全局小波惩罚项对于版图的高频分量能进行更加深入的分析。在这之后,文章中提出了一个新的基于梯度法的反向光刻算法,新算法里面通过将全局小波惩罚项作为它的第一阶段复杂度惩罚项,能更好的降低版图复杂度。实验证明,基于90nm的光学条件和三个典型的65nm的flash阵列版图,相比于采用文章中称为局部小波惩罚项作为复杂度惩罚项的梯度算法,新算法得到的三个版图结果,总的顶点数目分别下降了12.89%,12.63%和12.64%,与此同时精确度保持在同一个水平上。     

高产大豆新品种周豆19选育及高产栽培技术

国审周豆19号是周口市农科院于2000年以高产、优质、多抗为育种目标,选用高产、抗病品系周豆13号为母本,高产、高油、广适性好的周豆12号作父本进行人工有性杂交选育而成.2010年同时通过国家和河南省品种审定委员会审定.该品种具有高产、稳产、优质等优点.适于河南省各地及山东南部、安徽和江苏的淮河以北地区种植.