托烷类生物碱的合成研究进展

托烷类生物碱是具有8氮杂双环[3,2,1]辛烷分子骨架的一类化合物。它们及其类似物在医疗上占有重要地位。就其代表物东莨菪碱、山莨菪碱和包公藤甲素以及重要中间体的合成方法进行综述。     

条件概率在推悬比统计分析中的应用

本文依据概率论原理，通过建立条件频率曲线的方法，论证推悬比的频率曲线，即悬移质发生的条件，相应推移有条件频率曲线。以长江新厂站实测资料例，对如何建立频率的曲线的工作程序，方法、图表等，作了详细说明，为泥沙工程中确定推移量、延长推移质系列、改进泥沙测验布局，提供了一个新方法。     

普鲁士兰恒电流法沉积在聚苯胺膜上的性能表征

在ITO玻璃上分别用循环扫描伏安法和恒电流法依次沉积了聚苯胺(PANI)和普鲁士兰(PB)薄膜,对PANI和PB单层膜及复合膜的红外光谱进行了分析,讨论了3种薄膜的循环伏安曲线和紫外-可见吸收光谱.结果表明,在所选沉积条件下,制备出了电活性高的电致变色复合薄膜,600nm处的着色效率η=57.3.用钾离子掺杂的聚(2-丙稀酰胺-2-甲基丙磺酸)(PAMPS)作为离子导体,电导率σ达到8.691×10-3S/cm,组装的器件循环50次后,CV曲线变化较小,性能稳定.     

柔性衬底ITO薄膜的制备及其光电性能研究

在室温下,采用直流反应磁控溅射法,在聚酯薄膜（PEP）衬底上镀制了高性能的ITO薄膜。为了提高薄膜与基底的结合力,溅射前采用多弧离子源对PEP表面进行了等离子体清洗。研究了溅射工艺参数对ITO薄膜的光电性能和红外发射率的影响规律,探讨了ITO膜的透光和导电机理,并分析了方块电阻与红外发射率的相互关系。实验结果表明,通过等离子体清洗,ITO薄膜的结合力和光电性能都得到了改善。ITO薄膜的红外发射率和方块电阻受制备条件的影响规律具有相似之处,红外发射率随薄膜方块电阻的增大而呈增加的趋势。     

大面积柔性基底TiO2/Ag/Ti/TiO2多层膜的制备及其光电和红外发射特性

利用磁控溅射在柔性基底上制备了大面积的TiO2/Ag/Ti/TiO2多层膜, 其中TiO2和Ag分别采用中频反应溅射和直流磁控溅射制备, 同时采用Ti作为过渡层, 有效地防止了在溅射最外层TiO2时对Ag膜连续性的破坏.利用紫外可见分光光度计, 四探针电阻仪, 扫描电子显微镜, 红外比辐射率测量仪对薄膜的表面形貌和光电特性进行了表征, 重点研究了不同膜层厚度对多层膜可见光透过率, 方块电阻和红外发射率的影响.结果表明, Ag层厚度对多层膜的方块电阻和红外发射率有决定性的影响, 而TiO2层厚度对此影响不大.     

三本院校《税务会计》一体化教学探讨

随着我国税收制度的完善,税务对企业的影响越来越重大,税务会计的作用日益突出,财会人员必须发生职能的转变.文章结合三本院校学生的实际情况,对<税务会计>教学进行了探讨,提出了一体化教学的构想,以提高学生素质,满足社会需求.     

ITO／WO3／LiTaO3／NiOx／ITO全固态电致变色器件的制备及性能研究

利用磁控溅射法在不同流量的液氮低温冷却的条件下在ITO玻璃上制备WO3、LiTaO3、NiOx、ITO薄膜,5层薄膜组成ITO/WO3/LiTaO3/NiOx/ITO全固态电致变色器件.采用XRD、SEM、可见光分光光度计等测试手段进行对比分析.结果发现:低温制备的WO3薄膜为非晶态结构,在可见光范围内漂白态和着色态的平均透射率差△T可以达到70%以上.LiTaO3薄膜表面的颗粒度比较小,结构致密,其厚度对整个器件的光学性能有一定影响,在可见光范围内平均透射率达到95%.在低温条件下制备的NiOx薄膜比常温沉积的薄膜会提供更多的Ni2 离子参与变色反应.该器件显示出较好的电致变色特性.     

BiMn共掺Pd修饰GO/MOF-74-Co复合材料设计与电催化氧化乙二醇性能

将BiMn共掺Pd的合金纳米粒子成功地修饰到三维棱锥柱状的还原氧化石墨烯(rGO)/金属有机骨架(MOFs)-74-Co上,得到一种新型复合电催化剂PdBiMn@rGO/MOF-74-Co,其中Pd-Bi-Mn的平均粒径约7.8 nm,MOF-74-Co为多孔的面心六角单元结构.该PdBiMn@rGO/MOF-74-C...     

厚度对室温沉积ZnO:Al薄膜光电特性的影响

利用直流磁控溅射法, 在室温玻璃衬底上制备了具有良好附着性的多晶ZnO∶ Al(ZAO)薄膜. 比较了室温下获得的薄膜与衬底加热条件下所得薄膜的结晶程度, 研究了厚度对室温条件下制备的ZAO薄膜表面形貌、电学性能及紫外-可见-近红外光区透光性的影响. 结果表明, 室温条件下制备的ZAO薄膜也具有(002)面择优取向, 随着膜厚的增加薄膜晶粒化程度提高, 载流子浓度和迁移率增大, 电阻率下降, 薄膜在紫外光区的吸收边发生红移, 在可见光区的平均透过率降低, 在近红外光区的透过率随厚度的增加而减小. 厚度为1200 nm的ZAO薄膜具有最佳光电综合性能, 其电阻率为7.315×10~(-4) Ω·cm, 方块电阻为6.1 Ω/□, 可见光区平均透过率达到82%, 波长为550 nm处的透过率为87%.     

射频磁控溅射制备TiO2-xNx薄膜及其光催化特性研究

利用射频磁控溅射在玻璃衬底上制备了透明TiO2 和 TiO2-x Nx 薄膜样品,通过 X 射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)及 UV Vis分光光度计等测试手段表征了样品的结构、形貌和光催化性能。结果表明制备的薄膜为锐钛矿相结构。随着 N2/Ar气流比的增大薄膜样品出现新的物相,吸收光谱向可见光方向展宽,在N2/Ar流量比为 3∶100 时,制备的薄膜在可见光区具有很好的光催化性能。